Unidade UV da exposição da tela

Unidade UV da exposição da tela
Especificações:
M-800SB
dimensão 1.Glass: 700X800mm;
espessura 2.Glass: 10mm.
wattagem 3.Lamp: 2000W;
dimensão do quadro 4.Max: 500×800mm;
área 5.Exposure: 550mm×750mm;
grau 6.Vacuum: 0.05mpa.
7.Wattage: 80w/cm.
distância 8.Lamp: 750mm;
peso 9.Gross: 120KG.
10. tamanho de embalagem: 96*83*105CM
11. fonte de alimentação: 220V, 50HZ, única frase

M-1200SB
dimensão 1.Glass: 900X1200mm;
espessura 2.Glass: 10mm.
wattagem 3.Lamp: 2000W;
dimensão do quadro 4.Max: 800×1100mm;
área 5.Exposure: 850mm×1150mm;
grau 6.Vacuum: 0.05mpa.
7.Wattage: 80w/cm.
distância 8.Lamp: 750mm;
peso 9.Gross: 180KG.
10. tamanho de embalagem: 1330*1030*950mm
11. fonte de alimentação: 220V, 50HZ, única frase

Vantagens:
1. o vácuo que absorve, o elástico de alta qualidade o pano de borracha selado, deixou o filme firmemente contactar à tela, e assim que assegurou os projetos claros;
2. apropriado para a exposição a placa da almofada.
3. o tipo famoso do sistema da exposição assegura o estável e mesmo a exposição.
4. exemplo entra a condição do vácuo, ganha muita hora defatura.
5. fácil de operar, conveniente ajustar o tempo de exposição.
6. escolha a lâmpada UV de alta qualidade que mantêm um período de longa vida.
7. articulação inteira com placa do zinco, mobilidade e firmemente.
8. ajuste e controlo do tempo de Exposal auto.
9. grau do vácuo alto, fáceis transferir e copiar linhas tênues;
10. a porta automática da lâmpada UV cortou e girou sobre quando a exposição e o finsi asseguram a longa vida da lâmpada UV;
11. O painel superior adota o vidro temperado, a rigidez agradável e o tansparence alto.

Usado no arquivado da placa-fatura tal como a placa da almofada, placa da tela, placa quente do stamper, placa da resina. quando você põe o filme na placa na máquina uv da exposição, comece-a, a emulsão na placa aparecerá um despercebido imaginam. este for processo importante em todo o filme de borracha defatura de technology.flexibility assegura o contato do filme compactamente com superfície do slik quando estado de vácuo