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Máquina de revestimento por pulverização por magnétrons de filme ITO

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País / Região:china
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Máquina de revestimento por pulverização por magnétrons de filme ITO

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Número de modelo :RTSP800
Lugar de origem :Made in China
Quantidade de ordem mínima :1 conjunto
Termos do pagamento :L/C, D/A, D/P, T/T
Capacidade da fonte :6 grupos pelo mês
Tempo de entrega :12 semanas
Detalhes de empacotamento :Exporte o padrão, para ser embalado em uns novos casos/caixas, em apropriados para o oceano/ar e o t
Tecnologia de Revestimento :DC & MF Magnetron Sputtering
Características do equipamento :Estrutura robusta, design compacto, alta eficiência e controle de operação de precisão
Recurso de Revestimento :Alta reflexiva, excelente resistência à corrosão e ao desgaste
Controle de operação :PLC intuitivo e controle IPC
Serviço e Treinamento :Disponível, do engenheiro e técnicos dos EUA
Nome :Máquina de Revestimento por Pulverização Magnetron
Localização da fábrica :Cidade de Shanghai, China
Serviço mundial :Polônia - Europa; Irã Ásia & Médio Oriente ocidentais, Turquia, Índia, México Ámérica do Sul
Serviço de treinamento :Operação de máquina, manutenção, receitas de revestimento do processo, programa
Garantia :Garantia limitada 1 ano para livre, toda a vida para a máquina
OEM e ODM :disponíveis, nós apoiamos o projeto e a fabricação específicos
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Máquina de revestimento de filme ITO, tipo de banho ITO película Magnetron Sputtering Coater / Máquina de deposição de vidro ITO

 

 

Máquina de revestimento por película ITOAplicações normalizadas: PET, vidro, para gerar camadas de revestimento ITO.

 

A máquina foi construída em 2012.

Aplicação: filme AR, filme ITO.

 

Máquina de revestimento por pulverização por magnétrons de filme ITO

 
Máquina de revestimento por película ITOFiguras de revestimento PVD

Peças de trabalho:

Tamanho: 300 mm*100 mm

Espessura do PET: 0,175 mm +/- 0,05 mm

* Espessura do filme ITO:185nm+/-5nm

Resistência da chapa: 6~8 ohm/m2

 

Máquina de revestimento por película ITOConfigurações técnicas:

1) Fontes de pulverização de CC: Cu, Al, ITO

2) Fontes de pulverização MF

3) Turbo bomba molecular + grupo de bomba de apoio

4) Campo magnético de alta intensidade para melhorar a qualidade do filme ITO, taxa de utilização alvo > 30%

5) Metas de utilização de Cu, Al, Si > 35%

6) Taxa de deposição: 30 nm m/min ~ 40 nm m/min

7) Área de uniformidade de pulverização: 350 mm

 

 

Por favor, entre em contato conosco para mais especificações, a Royal Technology tem a honra de lhe fornecer soluções totais de revestimento.

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