Sistema de pulverização por magnetrão desequilibrado de campo fechado

Os processos de magnetrão de campo desequilibrado e fechado têm todas as vantagens dos magnetrões planos.

• Bombardeio iônico adicional, resultando em filmes densos e aderentes
• É possível assistir os íons e limpar o substrato
• Melhores películas tribológicas, resistentes ao desgaste e à corrosão
• Emolduráveis para filmes multicamados, superrelatórios, nanolaminantes e nanocompositos
• Utilização de materiais mais pobre
• Configuração de cátodo mais complexa/despesas

A pulverização de magnetrões de campo desequilibrado e fechado revolucionou as propriedades alcançáveis pelos processos de pulverização de magnetrões.resistência à corrosão e propriedades ópticas como esta tecnologia foiNo próximo blog, passamos a processos de magnetrão rotativos e cilíndricos e aplicações resultantes em películas finas.

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A Royal Technology desenvolveu catodos de pulverização de alto rendimento e alta utilização de alvo, especialmente para pulverização de metais raros e caros: Au Gold, Ta Tantalum, deposição de filmes metálicos de prata Ag.O sistema de deposição de filme de alta uniformidade tem servido várias indústrias como peças eletrônicas, componentes de instrumentos médicos que exigem uma elevada uniformidade de filme, deposição de múltiplas camadas.

A máquina RTSP1000 é uma máquina padronizada desenvolvida pela Royal Technology.

Limpeza de plasma de fonte de íons lineares e deposição assistida: por favorClique aquipara ver vídeo

Por favor, entre em contato conosco para mais especificações, a Royal Technology tem a honra de lhe fornecer soluções totais de revestimento.