Meados de - magnétron da frequência que engasga a máquina de revestimento, MF que engasga a planta de revestimento, engasgando o sistema do depósito de vácuo

Magnétron da Meados de-frequência que engasga a máquina de revestimento/MF que engasga o sistema  

O magnétron que engasga o revestimento de vácuo é um tipo de menthod do tratamento de superfície de chapeamento do íon de PVD. Pode ser usado para a produção de filmes de condução ou não de condução, em muitos tipos materiais: metais, vidro, cerâmico, plástico, liga do metal. O conceito do depósito engasgar: o material de revestimento (alvo, igualmente nomeado cátodo) e as partes do trabalho (carcaças, igualmente chamadas ânodo) são colocados na câmara de vácuo e na pressão são reduzidos. Engasgar é iniciado colocando o alvo sob uma tensão differintial e introduzindo o gás do argônio que forma íons do argônio (descarga de fulgor). Os íons do argônio aceleram para o alvo do processo e deslocam átomos do alvo. Estes átomos engasgar então são condensados na carcaça e formam a camada muito fina e alta da uniformidade. As várias cores podem ser conseguidas introduzindo gás reativos como, nitrogênio, oxgen, ou acetileno nos gass do salpico durante o processo do revestimento.

Magnétron que engasga modelos: C.C. que engasga, MF que engasga, engasgar do RF

Que o MF está engasgando?

Comparado com a C.C. e o RF que engasgam, engasgar da Meados de-frequência transformou-se um filme fino principal que engasga a técnica para a produção em massa de revestimento, particularmente para o depósito do filme de revestimentos dielétricos e não-condutores do filme em superfícies tais como os revestimentos óticos, os painéis solares, as camadas múltiplas, o filme etc. do material composto.

Está substituindo engasgar do RF devido a ele operou-se com quilohertz um pouco do que o megahertz para uma taxa de depósito muito mais rápida e igualmente pode evitar o envenenamento do alvo durante o depósito composto do filme fino como a C.C.

O MF que engasga alvos existiu sempre com dois-grupos. Dois cátodos são usados com uma corrente da C.A. comutada para a frente e para trás entre eles qual limpa a superfície do alvo com cada reversão para reduzir a acumulação da carga em dielétricos que aquele conduz a formar arcos que pode vomitar gotas no plasma e impedir o crescimento de filme fino uniforme--- qual é o que nós chamamos Alvo Envenenamento.

MF que engasga o desempenho do sistema

1. Pressão final do vácuo: melhore do que os Torr 5.0×10-6.

2. Pressão de funcionamento do vácuo: Torr 1.0×10-4.

3. Tempo de Pumpingdown: de 1 atm a 1.0×10-4 Torr≤ 3 minutos (a temperatura ambiente, seca, limpa e esvazia a câmara)

4. Metalizando o material (que engasga + evaporação do arco): Ni, Cu, AG, Au, si, Zr, Cr, lata, tique, TiAlN, CrN, centro de detecção e de controlo, etc.

5. Modelo de funcionamento: Automaticamente /Semi-Auto/ completo manualmente

MF que engasga a estrutura de sistema

A máquina de revestimento do vácuo contém o sistema da chave terminado alistado abaixo:

1. Câmara de vácuo

2. Sistema de bombeamento do vácuo de Rouhging (pacote da bomba do revestimento protetor)

3. Sistema de bombeamento do vácuo alto (magneticamente bomba molecular da suspensão)

4. Sistema bonde do controle e da operação

5. Sistema da facilidade de Auxiliarry (subsistema)

6. Sistema do depósito: MF que engasga o cátodo, fonte de alimentação do MF, fonte de íon diagonal da fonte de alimentação para opcional

MF que engasga especificações do sistema RTSP1212-MF

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