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Bolacha da camada do molde de Sapphire Substrate AlN de 2 polegadas para dispositivos de 5G BAW

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Província / Estado:shanghai
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Bolacha da camada do molde de Sapphire Substrate AlN de 2 polegadas para dispositivos de 5G BAW

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Number modelo :AlN-safira 2inch
Lugar de origem :China
Quantidade de ordem mínima :5pcs
Termos do pagamento :T/T, Western Union, Paypal
Capacidade da fonte :50PCS/Month
Prazo de entrega :em 30days
Detalhes de empacotamento :único recipiente da bolacha no quarto desinfetado
carcaça :bolacha da safira
camada :Molde de AlN
espessura da camada :1-5um
tipo da condutibilidade :N/P
Orientação :0001
aplicação :poder superior/dispositivos eletrónicos de alta frequência
aplicação 2 :dispositivos de 5G saw/BAW
espessura do silicone :525um/625um/725um
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a safira de 2inch 4iinch 6Inch baseou o filme de AlN dos moldes de AlN na carcaça da safira

2inch na bolacha da camada do molde de AlN da carcaça da safira para dispositivos de 5G BAW

 

Aplicações de   Molde de AlN
 
  Nosso OEM desenvolveu séries de tecnologias proprietárias e -estado-- dos reatores e das facilidades do crescimento da arte PVT a
fabrique tamanhos diferentes das bolachas monocristalinas de alta qualidade de AlN, temlpates de AlN. Nós somos um do poucos mundo-principais
empresas da alto-tecnologia que próprio capa completo da fabricação de AlN? bilities para produzir os boules e as bolachas de alta qualidade de AlN, e a fornecê-los
profes? serviços do sional e soluções da volta-chave nossos clientes, arranjados do projeto do reator e do hotzone do crescimento,
modelagem e simulação, projeto de processo e otimização, crescimento de cristal,
characteriza wafering e material? tion. Até abril de 2019, aplicaram mais de 27 patentes (que incluem o PCT).
 
             Especificação
 
EspecificaçãoBolacha da camada do molde de Sapphire Substrate AlN de 2 polegadas para dispositivos de 5G BAWaracteristic do Ch

 

A outra especificação do relaterd 4INCH GaN Template

 

 

     
  Carcaças do ₃ do ₂ O do Al de GaN/(4") 4inch
Artigo Un-lubrificado N-tipo

Alto-lubrificado

N-tipo

Tamanho (milímetros) Φ100.0±0.5 (4")
Estrutura da carcaça GaN na safira (0001)
SurfaceFinished (Padrão: Opção de SSP: DSP)
Espessura (μm) 4.5±0.5; 20±2; Personalizado
Tipo da condução Un-lubrificado N-tipo N-tipo Alto-lubrificado
Resistividade (Ω·cm) (300K) ≤0.5 ≤0.05 ≤0.01
GaN Thickness Uniformity
 
≤±10% (4")
Densidade de deslocação (cm2)
 
≤5×108
Área de superfície útil >90%
Pacote Empacotado em um ambiente do quarto desinfetado da classe 100.
 

 

Bolacha da camada do molde de Sapphire Substrate AlN de 2 polegadas para dispositivos de 5G BAWBolacha da camada do molde de Sapphire Substrate AlN de 2 polegadas para dispositivos de 5G BAW

Estrutura de cristal

Wurtzite

Constante da estrutura (Å) a=3.112, c=4.982
Tipo da faixa de condução Bandgap direto
Densidade (g/cm3) 3,23
Microhardness de superfície (teste de Knoop) 800
Ponto de derretimento (℃) 2750 (barra 10-100 no N2)
Condutibilidade térmica (W/m·K) 320
Energia da diferença de faixa (eV) 6,28
Mobilidade de elétron (V·s/cm2) 1100
Campo elétrico da divisão (MV/cm) 11,7

Bolacha da camada do molde de Sapphire Substrate AlN de 2 polegadas para dispositivos de 5G BAWBolacha da camada do molde de Sapphire Substrate AlN de 2 polegadas para dispositivos de 5G BAW

 

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