Camada de óxido térmico SiO2 Espessura da bolacha 20um Sistema de comunicação óptica MEMS

Wafer SiO2 Laver de óxido térmico Espessura 20um+5% Sistema de comunicação óptica MEMS

Descrição do produto:

A bolacha de dióxido de silício SIO2 serve como um elemento fundamental na fabricação de semicondutores.Este substrato crucial está disponível em diâmetros de 6 e 8 polegadasA partir daí, o material é utilizado para a fabricação de produtos de alta resistência dieletrica.O seu índice de refração, aproximadamente 1,4458 a 1550 nm, garante um desempenho ideal em diversas aplicações.

Reconhecida por sua uniformidade e pureza, esta bolacha é uma escolha ideal para dispositivos ópticos, circuitos integrados e microeletrônicos.As suas propriedades facilitam processos de fabricação de dispositivos precisos e apoiam os avanços tecnológicosAlém do seu papel fundamental na fabricação de semicondutores, estende a sua fiabilidade e funcionalidade a um espectro de aplicações, garantindo estabilidade e eficiência.

Com os seus atributos excepcionais, a bolacha de dióxido de silício SIO2 continua a impulsionar inovações na tecnologia de semicondutores, permitindo avanços em campos como circuitos integrados,OptoeletrónicaAs suas contribuições para tecnologias de ponta sublinham a sua importância como material fundamental na produção de semicondutores.

Características:

• Nome do produto: Substrato de semicondutores
• Índice de refração: 550nm de 1,4458 ± 0.0001
• Ponto de ebulição: 2,230° C
• Áreas de aplicação: Fabricação de semicondutores, microelectrónica, dispositivos ópticos, etc.
• Espessura: 20 mm, 10 mm, 25 mm
• Peso molecular: 60.09
• Material semicondutor: Sim
• Material do substrato: Sim
• Aplicações: Fabricação de semicondutores, Microelectrónica, Dispositivos ópticos, etc.

Parâmetros técnicos:

Aplicações:

Apoio e Serviços:

Fornecemos suporte técnico e serviço para o nosso produto de Substrato de Semicondutores.Também podemos fornecer assistência na solução de problemas que você encontrar durante o uso do produtoTambém oferecemos assistência remota para aqueles que precisam dela. Nossa equipe de suporte está disponível durante o horário comercial normal, e podemos ser alcançados por telefone, e-mail ou através do nosso site.

Embalagem e transporte:

Embalagem e transporte de substrato de semicondutores:

• Os produtos embalados devem ser manuseados com cuidado, utilizando sempre que possível uma cobertura protetora, como borracha ou espuma.
• Se possível, use várias camadas de cobertura protetora.
• Marque a embalagem com o conteúdo e o destino.
• Envie o pacote usando um serviço de envio apropriado.

Perguntas frequentes:

P: Qual é a marca do Substrato de Semicondutores?

A: A marca é ZMSH.

P: Qual é o número de modelo do Substrato de Semicondutores?

R: O número do modelo é wafer de óxido de silício ultra espesso.

P: Onde é feito o Substrato de Semicondutores?

R: É feito na China.

P: Qual é o propósito do substrato semicondutor?

R: O substrato semicondutor é utilizado na fabricação de circuitos integrados, sistemas microeletromecânicos e outras microestruturas.

P: Qual é a característica do substrato semicondutor?

R: As características do Substrato Semicondutor incluem baixo coeficiente de expansão térmica, alta condutividade térmica, alta resistência mecânica e excelente resistência à temperatura.