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4H SiC espessura da bolacha de sementes 600±50μm <1120> Personalização Crescimento de carburo de silício

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4H SiC espessura da bolacha de sementes 600±50μm <1120> Personalização Crescimento de carburo de silício

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Curva/urdidura :≤ 50um
Resistividade :Alto - baixa resistividade
orientação :Em-linha central/linha central
TTV :≤2um
Tipo :4H
Diâmetro :2 polegadas 4 polegadas 6 polegadas 8 polegadas
Partícula :Partícula livre/baixa
Material :Carbono de silício
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4H SiC espessura da bolacha de sementes 600±50μm <1120> Personalização Crescimento de carburo de silício

Descrição da Wafer de sementes de SiC:

O cristal de semente de SiC é na verdade um pequeno cristal com a mesma orientação cristalina do cristal desejado, que serve como semente para o crescimento de um único cristal.Usando cristais de sementes com diferentes orientações cristalinasPor conseguinte, são classificados de acordo com as suas finalidades: cristais de sementes de cristal único puxados por CZ, cristais de sementes de fusão por zona,Cristal de sementes de safiraNeste número, vou compartilhar com você principalmente o processo de produção de cristais de sementes de carburo de silício (SiC),Incluindo a selecção e a preparação de cristais de sementes de carburo de silício, métodos de crescimento, propriedades termodinâmicas, mecanismos de crescimento e controlo do crescimento.

O caráter da bolacha de sementes de SiC:

1- Espaço de banda larga.

2. Alta condutividade térmica

3Alta força do campo de ruptura crítica.

4. Alta taxa de deriva de elétrons de saturação

Forma da Wafer de sementes de SiC:

Orifícios de sementes de carburo de silício
Politipo 4H
Erro de orientação da superfície 4° em direcção a < 11-20> ± 0,5o
Resistividade personalização
Diâmetro 205±0,5 mm
Espessura 600 ± 50 μm
Resistência à corrosão CMP,Ra≤0,2 nm
Densidade dos microtubos ≤ 1 ea/cm2
Arranhões ≤ 5, comprimento total ≤ 2* diâmetro
Chips de borda/indentos Nenhum
Marcação com laser frontal Nenhum
Arranhões ≤ 2, comprimento total≤ diâmetro
Chips de borda/indentos Nenhum
Áreas de politipo Nenhum
Marcação a laser traseira 1 mm (a partir da borda superior)
Margem Chamfer
Embalagem Caixa de vídeo de multi-wafer

Foto física da Wafer de Semente SiC:

4H SiC espessura da bolacha de sementes 600±50μm <1120> Personalização Crescimento de carburo de silício4H SiC espessura da bolacha de sementes 600±50μm <1120> Personalização Crescimento de carburo de silício

Aplicações da Wafer de Semente de SiC:

O cristal de semente de carburo de silício é utilizado para a preparação de carburo de silício.

Os cristais únicos de carburo de silício são tipicamente cultivados usando o método de transporte de vapor físico.Os passos específicos deste método envolvem a colocação de pó de carburo de silício na parte inferior de um cadinho de grafite e a colocação de um cristal de semente de carburo de silício na parte superior do cadinhoO pó de carburo de silício decompõe-se em substâncias de fase de vapor, tais como vapor de Si, Si2C e SiC2.Estas substâncias sublimam para o topo do cadinho sob a influência de um gradiente de temperatura axialAo atingir o topo, eles se condensam na superfície do cristal de semente de carburo de silício, cristalizando em um cristal único de carburo de silício.

O diâmetro do cristal da semente precisa corresponder ao diâmetro do cristal desejado.

Imagem de aplicação da bolacha de sementes de SiC:

4H SiC espessura da bolacha de sementes 600±50μm <1120> Personalização Crescimento de carburo de silício

Embalagem e transporte:

4H SiC espessura da bolacha de sementes 600±50μm <1120> Personalização Crescimento de carburo de silício

Recomendação do produto:

1.6 polegadas Dia153 mm 0,5 mm monocristalino SiC carburo de silício semente de cristal Wafer ou lingote

 

 

4H SiC espessura da bolacha de sementes 600±50μm <1120> Personalização Crescimento de carburo de silício

2.4h-N 100um pó abrasivo de carburo de silício para crescimento de cristais SIC

 

4H SiC espessura da bolacha de sementes 600±50μm <1120> Personalização Crescimento de carburo de silício

 

 

 

 

 

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