Chongqing Silian Optoelectronic Science & tecnologia Co., Ltd.

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Nenhum transmitância de rachamento de Sapphire Wafer With Good Light de 6 polegadas

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Chongqing Silian Optoelectronic Science & tecnologia Co., Ltd.
Cidade:chongqing
Província / Estado:chongqing
País / Região:china
Pessoa de contato:MsWu
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Nenhum transmitância de rachamento de Sapphire Wafer With Good Light de 6 polegadas

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Number modelo :Personalizado
Lugar de origem :Chongqing, China
Quantidade de ordem mínima :500pcs
Termos do pagamento :Western Union, T/T, MoneyGram
Capacidade da fonte :20.000 PCes/mês
Prazo de entrega :5-8 semanas
Detalhes de empacotamento :PCes 1pcs/12pcs/25
Diâmetro :150.1±0.1
Comprimento liso :47.5±1
Curva :0 ~ (- 10) um
cor :Transparente; outras cores
Material :Pureza alta e AL2O3 Monocrystalline
Crystal Orientation de superfície :C-plano 0°±0.1°
Orientação lisa preliminar :Um-plano 0°±0.5°
Borda quebrada :≤3mm
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carcaça da safira 6-inch com bom transmitância claro

 

Descrição do produto

 

A composição quimica do cristal de safira é alumina, com a estrutura sextavada da estrutura de cristal. A safira é um material de uso geral da carcaça para o crescimento epitaxial do nitreto do gálio (GaN). Tem a dureza ultra-alta, propriedades físicas e químicas estáveis em altas temperaturas, desempenho ótico excelente.

 

Especificação técnica

 

Propriedades Unidade carcaça de 6 polegadas
Diâmetro milímetro 150.1±0.1
Comprimento liso milímetro 47.5±1
Material Pureza alta e AL2O3 Monocrystalline
Crystal Orientation de superfície C-plano 0°±0.1°
Orientação lisa preliminar Um-plano 0°±0.5°
Borda quebrada ≤3mm
Quebra Nenhum rachamento
Defeito Nenhum Wrappage, cristal gêmeo ou Crystal Boundary
EPD ² de <1000/cm

 

Pesquisa do desempenho

 

O GaN semi-polar e não-polar pode ser crescido na carcaça da safira com alguns planos especiais como o M-plano <1-100>e o R-plano <1-102>. O GaN semi-polar e não-polar tem o bom desempenho para melhorar o efeito da inclinação do dispositivo, o fenômeno do deslocamento do comprimento de onda e a eficiência da faixa do comprimento de onda longo do dispositivo do diodo emissor de luz. Os estudos mostraram que usar a camada de alta temperatura da nucleação de AlN e a temperatura mais alta do crescimento de AlGaN, ou uma camada do amortecedor com o AlGaN multilayer, ou a utilização do si que lubrifica a técnica pode eficazmente melhorar a qualidade de cristal e a densidade de deslocação dos filmes finos semi-polares e não-polares de AlGaN crescidos em carcaças da safira.

 

Nenhum transmitância de rachamento de Sapphire Wafer With Good Light de 6 polegadas

 

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