JINXING MATECH CO LTD
ENCANTAR MATECH é um fornecedor perito na solução do metal. Especialmente nos produtos tais como o cobre da liga do tungstênio, do tungstênio, o titânio, o zircônio, o vanádio, o háfnio, engasgando o
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Ion Implanting Molybdenum Products é uma tecnologia do feixe de íon que ionize os átomos de um elemento em íons, os acelere em uma tensão dos dez às centenas de quilovolt, e o injete na superfície do material do workpiece colocada na câmara do alvo do vácuo após ter obtido a alta velocidade.
Após a implantação de íon, as propriedades do exame, as químicas e as mecânicas da superfície do material mudarão significativamente. A resistência de desgaste contínua da superfície de metal pode alcançar 2 ~ 3 ordens de grandeza da profundidade inicial da implantação.
ESPECIFICAÇÃO & COMPOSIÇÕES QUIMICAS (SUBSTANTIVOS)
| Material | Tipo | Composição quimica (por peso) |
| Moly puro | Mo1 | >99.95%min. Mo |
| Liga Si-Zr-Mo | TZM | Zr do si de 0,5%/0,08%/0,01 - 0,04% C |
| Mo-Hf-c | MHC | Hf de 1,2%/0,05 - 0,12% C |
| Rênio de Moly | Mais | 5,0% re |
| Tungstênio de Moly | MoW20 | 20,0% W |
| Tungstênio de Moly | MoW505 | 0,0% W |
(1) é uma tecnologia não poluída pura do tratamento de superfície;
(2) não precisa a ativação térmica e o ambiente de alta temperatura, assim que não mudará a dimensão total e o revestimento de superfície do workpiece;
(3) camadas da implantação de íon são uma camada de superfície nova formada por uma série de interações físicas e químicas entre o feixe de íon e a superfície da carcaça, e não há nenhum problema de descascamento entre ele e a carcaça;
(4) não há nenhuma necessidade para fazer à máquina e tratamento térmico após a implantação de íon.
Na tecnologia de semicondutor, a implantação de íon tem a uniformidade e a repetibilidade da dose da elevada precisão. Pode obter a concentração e a integração de lubrificação ideais, para melhorar extremamente a integração, a velocidade, o rendimento e a vida útil do circuito, e reduz o consumo do custo e da potência. Isto é diferente do depósito de vapor químico.
A fim obter parâmetros ideais, tais como a espessura de filme e a densidade, o depósito de vapor químico precisa de ajustar o equipamento que ajusta parâmetros, tais como a temperatura e o caudal do ar, que é um processo complexo.
Além do que a indústria da produção do semicondutor, com o desenvolvimento rápido da automatização de controle industrial, a tecnologia da implantação de íon é igualmente amplamente utilizada na melhoria dos metais, da cerâmica, do vidro, dos compostos, dos polímeros, dos minerais e das sementes da planta.