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Casa / Produtos / IC Silicon Wafer / 2 " 3" FZ SiO2 Single Crystal IC Chips 100um 200um Camada de oxidação seca húmida 100nm 300nm /

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2 " 3" FZ SiO2 Single Crystal IC Chips 100um 200um Camada de oxidação seca húmida 100nm 300nm
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2 ̊ 3 ̊ FZ SiO2 Single Crystal IC Chips 100um 200um Camada de oxidação seca húmida 100nm 300nm Descrição do produto: A bolacha de silício é formada ...
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bolacha sio2 dimensionamento do varistor de óxido metálico bolacha de silicone do CI

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