SUZHOU HSF ELECTRONIC MATERIALS TECHNOLOGY CO., LTD.

Tecnologia de materiais eletrônica Co. de Suzhou HSF, Ltd

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Forro de liberação do Fluorosilicone

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SUZHOU HSF ELECTRONIC MATERIALS TECHNOLOGY CO., LTD.
Cidade:suzhou
Província / Estado:jiangsu
País / Região:china
Pessoa de contato:MissJucy yang
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 Forro de liberação do Fluorosilicone

forro de liberação claro do ANIMAL DE ESTIMAÇÃO de 36 μm usado principalmente como o filme da descarga do desperdício nas indústrias 3C

Filtro de liberação de flúor, adequado para o corte a pressão e perfuramento de fita PAS de silicone a alta temperatura. Características O filme
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filme claro da liberação do ANIMAL DE ESTIMAÇÃO de 25 μm usado principalmente como filmes da descarga do desperdício nas indústrias 3C

PET transparente de 25 micrões, Liberação de flúor, força de descascamento estável, alta adesão residual, resistência a solventes, baixa iridescência....
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50micron Iridescência de descascamento estável da força do forro de liberação do Fluorosilicone baixa

ANIMAL DE ESTIMAÇÃO claro 50micron, liberação do flúor, força de descascamento estável, adesão residual alta, resistência solvente, baixa iridescência...
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forro de liberação claro do ANIMAL DE ESTIMAÇÃO de 75 μm usado como filmes da descarga do desperdício nas indústrias 3C

PET transparente de 75 micrões, Liberação de flúor, força de descascamento estável, alta adesão residual, resistência a solventes, baixa iridescência....
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Resistência aos solventes de revestimento de liberação de PET 100 μm claro Usado principalmente como filme de descarga de resíduos nas indústrias 3C

PET puro de 100 micrões, Liberação de flúor, força de descascamento estável, alta adesão residual, resistência a solventes, baixa iridescência. S......
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