Uma carcaça sextavada autônoma Si-lubrificada plano do cristal de GaN GaN

Lugar de origem:China
Quantidade de ordem mínima:1-10,000pcs
Termos do pagamento:T/T.
Capacidade da fonte:10.000 bolachas/mês
Tempo de entrega:5-50 dias de trabalho
Detalhes de empacotamento:Empacotado em um ambiente do quarto desinfetado da classe 100, no único recipiente, sob uma atmosfer
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Xiamen Fujian China
Endereço: #506B, centro de negócios de Henghui, No.77, Lingxia Nan Road, zona alta-tecnologia, Huli, Xiamen 361006, China
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Uma carcaça sextavada autônoma Si-lubrificada plano do cristal de GaN GaN

 

PAM-XIAMEN estabeleceu a tecnologia de fabricaço para (nitreto do gálio) a bolacha autônoma da carcaça de GaN que é para UHB-LED e LD. Crescido pela tecnologia de (HVPE) da epitaxia da fase de vapor do hidruro, nossa carcaça de GaN tem a baixa densidade do defeito e o menos ou densidade macro livre do defeito.

 

PAM-XIAMEN oferece a série completa de GaN e os materiais relacionados de III-N que incluem carcaças de GaN de várias orientações e condutibilidade elétrica, moldes do crystallineGaN&AlN, e epiwafers feitos sob encomenda de III-N.

 

Mostra aqui a especificaço de detalhe:

Uma carcaça autônoma de GaN do si-GaN plano

ArtigoPAM-FS-GaN A-SI
Dimenso5 x 10 milímetros2
Espessura350 ±25 µm do µm 430±25
Orientaço

Um plano (11-20) fora do ngulo para a M-linha central 0 ±0.5°

Um plano (11-20) fora do ngulo para a C-linha central -1 ±0.2°

Tipo da conduçoSemi-isolamento
Resistividade (300K)> 10 6 Ω·cm
TTVµm do ≤ 10
CURVA-10 µm do ≤ 10 da CURVA do ≤ do µm
Aspereza de superfície:

Parte anterior: Ra<0>

Verso: Terra fina ou lustrado.

Densidade de deslocaçoDe 1 x de 10 5 a 5 x de 106 cm-2
Densidade macro do defeito0 cm2
Área útil> 90% (excluso da borda)
Pacotecada um no único recipiente da bolacha, sob a atmosfera do nitrogênio, embalada no quarto desinfetado da classe 100

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Uma carcaça autônoma de GaN do si-GaN plano

O aumento da procura para capacidades demanipulaço de alta velocidade, de alta temperatura e altas fez reconsideraço da indústria do semicondutor a escolha dos materiais usados como semicondutores. Por exemplo, como os vários dispositivos de computaço mais rápidos e menores se levantam, o uso do silicone está fazendo difícil sustentar a lei de Moore. Mas igualmente na eletrônica de poder, as propriedades do silicone so já no suficientes para permitir umas melhorias mais adicionais na eficiência de converso.

 

Devido a suas tenso de diviso original das características (atual máximo alto, alto, e frequência de comutaço alta), nitreto do gálio (ou GaN) é o material original da escolha para resolver problemas de energia do futuro. GaN baseou sistemas tem a eficiência de poder mais alto, as perdas de poder assim da diminuiço, comutam em uma frequência mais alta, assim reduzindo o tamanho e o peso.

 

 

RELATÓRIO de balanço do Material-TESTE das curvas-GaN de XRD

 

Um relatório de teste é necessário para mostrar a conformidade entre a descriço feita sob encomenda e nossos dados finais das bolachas. Nós testaremos o characerization da bolacha pelo equipamento antes da expediço, testando a aspereza de superfície pelo microscópio atômico da força, o tipo pelo instrumento romano dos espectros, a resistividade pelo equipamento de testes da resistividade do no-contato, a densidade do micropipe pelo microscópio de polarizaço, a orientaço pelo raio X Orientator etc. se as bolachas cumprem a exigência, nós limparemos e para embalá-los no quarto desinfetado de 100 classes, se as bolachas no combinam as especs. do costume, nós retirá-las-emos.

 

A largura completa da metade-altura (FWHM) é uma expresso da escala das funções dadas pela diferença entre dois valores extremos da variável independente igual metade de seu máximo. Ou seja está a uma largura da curva espectral medida entre aqueles pontos na Y-linha central, que é metade da amplitude máxima.

 

Está abaixo um exemplo de curvas de balanço de XRD do material de GaN:

 

Curvas de balanço de XRD do material de GaN

 
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