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Uma carcaça sextavada autônoma Si-lubrificada plano do cristal de GaN GaN
PAM-XIAMEN estabeleceu a tecnologia de fabricaço para (nitreto do gálio) a bolacha autônoma da carcaça de GaN que é para UHB-LED e LD. Crescido pela tecnologia de (HVPE) da epitaxia da fase de vapor do hidruro, nossa carcaça de GaN tem a baixa densidade do defeito e o menos ou densidade macro livre do defeito.
PAM-XIAMEN oferece a série completa de GaN e os materiais relacionados de III-N que incluem carcaças de GaN de várias orientações e condutibilidade elétrica, moldes do crystallineGaN&AlN, e epiwafers feitos sob encomenda de III-N.
Mostra aqui a especificaço de detalhe:
Uma carcaça autônoma de GaN do si-GaN plano
Artigo | PAM-FS-GaN A-SI |
Dimenso | 5 x 10 milímetros2 |
Espessura | 350 ±25 µm do µm 430±25 |
Orientaço | Um plano (11-20) fora do ngulo para a M-linha central 0 ±0.5° Um plano (11-20) fora do ngulo para a C-linha central -1 ±0.2° |
Tipo da conduço | Semi-isolamento |
Resistividade (300K) | > 10 6 Ω·cm |
TTV | µm do ≤ 10 |
CURVA | -10 µm do ≤ 10 da CURVA do ≤ do µm |
Aspereza de superfície: | Parte anterior: Ra<0> Verso: Terra fina ou lustrado. |
Densidade de deslocaço | De 1 x de 10 5 a 5 x de 106 cm-2 |
Densidade macro do defeito | 0 cm2 |
Área útil | > 90% (excluso da borda) |
Pacote | cada um no único recipiente da bolacha, sob a atmosfera do nitrogênio, embalada no quarto desinfetado da classe 100 |
Uma carcaça autônoma de GaN do si-GaN plano
O aumento da procura para capacidades demanipulaço de alta velocidade, de alta temperatura e altas fez reconsideraço da indústria do semicondutor a escolha dos materiais usados como semicondutores. Por exemplo, como os vários dispositivos de computaço mais rápidos e menores se levantam, o uso do silicone está fazendo difícil sustentar a lei de Moore. Mas igualmente na eletrônica de poder, as propriedades do silicone so já no suficientes para permitir umas melhorias mais adicionais na eficiência de converso.
Devido a suas tenso de diviso original das características (atual máximo alto, alto, e frequência de comutaço alta), nitreto do gálio (ou GaN) é o material original da escolha para resolver problemas de energia do futuro. GaN baseou sistemas tem a eficiência de poder mais alto, as perdas de poder assim da diminuiço, comutam em uma frequência mais alta, assim reduzindo o tamanho e o peso.
RELATÓRIO de balanço do Material-TESTE das curvas-GaN de XRD
Um relatório de teste é necessário para mostrar a conformidade entre a descriço feita sob encomenda e nossos dados finais das bolachas. Nós testaremos o characerization da bolacha pelo equipamento antes da expediço, testando a aspereza de superfície pelo microscópio atômico da força, o tipo pelo instrumento romano dos espectros, a resistividade pelo equipamento de testes da resistividade do no-contato, a densidade do micropipe pelo microscópio de polarizaço, a orientaço pelo raio X Orientator etc. se as bolachas cumprem a exigência, nós limparemos e para embalá-los no quarto desinfetado de 100 classes, se as bolachas no combinam as especs. do costume, nós retirá-las-emos.
A largura completa da metade-altura (FWHM) é uma expresso da escala das funções dadas pela diferença entre dois valores extremos da variável independente igual metade de seu máximo. Ou seja está a uma largura da curva espectral medida entre aqueles pontos na Y-linha central, que é metade da amplitude máxima.
Está abaixo um exemplo de curvas de balanço de XRD do material de GaN:
Curvas de balanço de XRD do material de GaN