carcaça autônoma de GaN do si-GaN 10*10mm2 para o Iii-nitreto LDs

Lugar de origem:China
Quantidade de ordem mínima:1-10,000pcs
Termos do pagamento:T/T.
Capacidade da fonte:10.000 bolachas/mês
Tempo de entrega:5-50 dias de trabalho
Detalhes de empacotamento:Empacotado em um ambiente do quarto desinfetado da classe 100, no único recipiente, sob uma atmosfer
Contate

Add to Cart

Dos Estados-activa
Xiamen Fujian China
Endereço: #506B, centro de negócios de Henghui, No.77, Lingxia Nan Road, zona alta-tecnologia, Huli, Xiamen 361006, China
Fornecedor do último login vezes: No 11 Horas
Detalhes do produto Perfil da empresa
Detalhes do produto

 

carcaça autônoma de GaN do si-GaN 10*10mm2 para o Iii-nitreto LDs

 

PAM-XIAMEN estabeleceu a tecnologia de fabricaço para (nitreto do gálio) a bolacha autônoma da carcaça de GaN que é para UHB-LED e LD. Crescido pela tecnologia de (HVPE) da epitaxia da fase de vapor do hidruro, nossa carcaça de GaN tem a baixa densidade do defeito e o menos ou densidade macro livre do defeito.

 

PAM-XIAMEN oferece a série completa de GaN e os materiais relacionados de III-N que incluem carcaças de GaN de várias orientações e condutibilidade elétrica, moldes do crystallineGaN&AlN, e epiwafers feitos sob encomenda de III-N.

 

 

Mostra aqui a especificaço de detalhe:

 

carcaça autônoma de GaN do si-GaN 10*10mm2

 

ArtigoPAM-FS-GaN-50-SI
Dimenso10 x 10,5 milímetros2
Espessura350 ±25 µm do µm 430±25
OrientaçoPlano de C (0001) fora do ngulo para a M-linha central 0,35 ±0.15°
Tipo da conduçoSemi-isolamento
Resistividade (300K)> 106 Ω.cm
TTVµm do ≤ 10
CURVA-10 µm do ≤ 10 da CURVA do ≤ do µm
Aspereza de superfície:

Parte anterior: Ra<0>

Verso: Terra fina ou lustrado.

Densidade de deslocaçoDe 1 x de 105 a 5x 106 cm-2 (calculado pelo CL) *
Densidade macro do defeito0 cm2
Área útil> 90% (excluso da borda)

 

Pacote

cada um no único recipiente da bolacha, sob a atmosfera do nitrogênio, embalada no quarto desinfetado da classe 100

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

carcaça autônoma de GaN do si-GaN 10*10mm2

 

O aumento da procura para capacidades demanipulaço de alta velocidade, de alta temperatura e altas fez reconsideraço da indústria do semicondutor a escolha dos materiais usados como semicondutores. Por exemplo, como os vários dispositivos de computaço mais rápidos e menores se levantam, o uso do silicone está fazendo difícil sustentar a lei de Moore. Mas igualmente na eletrônica de poder, as propriedades do silicone so já no suficientes para permitir umas melhorias mais adicionais na eficiência de converso.

 

Devido a suas tenso de diviso original das características (atual máximo alto, alto, e frequência de comutaço alta), nitreto do gálio (ou GaN) é o material original da escolha para resolver problemas de energia do futuro. GaN baseou sistemas tem a eficiência de poder mais alto, as perdas de poder assim da diminuiço, comutam em uma frequência mais alta, assim reduzindo o tamanho e o peso.

 

RELATÓRIO de superfície do material-TESTE da aspereza-GaN

 

Um relatório de teste é necessário para mostrar a conformidade entre a descriço feita sob encomenda e nossos dados finais das bolachas. Nós testaremos o characerization da bolacha pelo equipamento antes da expediço, testando a aspereza de superfície pelo microscópio atômico da força, o tipo pelo instrumento romano dos espectros, a resistividade pelo equipamento de testes da resistividade do no-contato, a densidade do micropipe pelo microscópio de polarizaço, a orientaço pelo raio X Orientator etc. se as bolachas cumprem a exigência, nós limparemos e para embalá-los no quarto desinfetado de 100 classes, se as bolachas no combinam as especs. do costume, nós retirá-las-emos.

 

 

A aspereza de superfície geralmente é encurtada aspereza e é um componente da textura de superfície. É determinada pelo desvio do sentido normal do vetor da superfície real de seu formulário ideal. Se estes desvios so grandes, a superfície é áspera; Se so pequenos, a superfície é lisa. Na medida de superfície, a aspereza é considerada geralmente ser o componente de alta frequência do comprimento da curto-onda da superfície da escala de mediço. Na prática, contudo, é frequentemente necessário conhecer a amplitude e a frequência para assegurar-se de que a superfície seja apropriada para uma finalidade.

 

Está abaixo um exemplo da aspereza de superfície do material de GaN:

 

Uma aspereza-gan de superfície

 

 
Etiquetas de Produtos:
China carcaça autônoma de GaN do si-GaN 10*10mm2 para o Iii-nitreto LDs supplier

carcaça autônoma de GaN do si-GaN 10*10mm2 para o Iii-nitreto LDs

Inquiry Cart 0