carcaça autônoma de GaN do si-GaN do plano (de 11-22) pela epitaxia da fase de vapor do hidruro

Lugar de origem:China
Quantidade de ordem mínima:1-10,000pcs
Termos do pagamento:T/T.
Capacidade da fonte:10.000 bolachas/mês
Tempo de entrega:5-50 dias de trabalho
Detalhes de empacotamento:Empacotado em um ambiente do quarto desinfetado da classe 100, no único recipiente, sob uma atmosfer
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Endereço: #506B, centro de negócios de Henghui, No.77, Lingxia Nan Road, zona alta-tecnologia, Huli, Xiamen 361006, China
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carcaça autônoma de GaN do si-GaN do plano (de 11-22) pela epitaxia da fase de vapor do hidruro

 

PAM-XIAMEN estabeleceu a tecnologia de fabricaço para (nitreto do gálio) a bolacha autônoma da carcaça de GaN que é para UHB-LED e LD. Crescido pela tecnologia de (HVPE) da epitaxia da fase de vapor do hidruro, nossa carcaça de GaN tem a baixa densidade do defeito e o menos ou densidade macro livre do defeito.

 

PAM-XIAMEN oferece a série completa de GaN e os materiais relacionados de III-N que incluem carcaças de GaN de várias orientações e condutibilidade elétrica, moldes do crystallineGaN&AlN, e epiwafers feitos sob encomenda de III-N.

 

 

carcaça autônoma de GaN do si-GaN do plano (de 11-22)

Artigo(11-22) - SI PAM-FS-GaN
Dimenso5 x 10 milímetros2
Espessura350 ±25 µm do µm 430 ±25
Orientaço

(10-11) aplane fora do ngulo para a Um-linha central 0 ±0.5°

(10-11) aplane fora do ngulo para a C-linha central -1 ±0.2°

Tipo da conduçoSemi-isolamento
Resistividade (300K)> 106 Ω·cm
TTVµm do ≤ 10
CURVA-10 µm do ≤ 10 da CURVA do ≤ do µm
Aspereza de superfície

Parte anterior: Ra<0>

Verso: Terra fina ou lustrado.

Densidade de deslocaçoDe 1 x de 10 5 a 5 x de 10 6 cm-2
Densidade macro do defeito0 cm2
Área útil> 90% (excluso da borda)
Pacotecada um no único recipiente da bolacha, sob a atmosfera do nitrogênio, embalada no quarto desinfetado da classe 100

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

carcaça autônoma de GaN do si-GaN do plano (de 11-22)

A carcaça do GaN de PAM-XIAMEN (nitreto do gálio) é carcaça singlecrystal com de alta qualidade, que é feito com método de HVPE e tecnologia de processamento originais da bolacha. So uniformidade altamente cristalina, boa, e qualidade de superfície superior. As carcaças de GaN so usadas para muitos tipos dos pedidos, para o diodo emissor de luz branco e o LD (violeta, azul e verde), além disso o desenvolvimento progrediu para aplicações do dispositivo eletrónico do poder e da alta frequência.

 

A tecnologia de GaN é usada em aplicações de alta potência numerosas tais como fontes industriais, do consumidor e do servidor de alimentaço, movimentaço solar, da C.A. e inversores de UPS, e carros híbridos e bondes. Além disso, GaN é serido idealmente para aplicações do RF tais como estações base, radares e infraestrutura celulares da televiso por cabo nos trabalhos em rede, setores do espaço aéreo e da defesa, agradecimentos a sua força alta da diviso, figura de baixo nível de ruído e linearidades altas.

 

RELATÓRIO de balanço do Material-TESTE das curvas-GaN de XRD

 

Um relatório de teste é necessário para mostrar a conformidade entre a descriço feita sob encomenda e nossos dados finais das bolachas. Nós testaremos o characerization da bolacha pelo equipamento antes da expediço, testando a aspereza de superfície pelo microscópio atômico da força, o tipo pelo instrumento romano dos espectros, a resistividade pelo equipamento de testes da resistividade do no-contato, a densidade do micropipe pelo microscópio de polarizaço, a orientaço pelo raio X Orientator etc. se as bolachas cumprem a exigência, nós limparemos e para embalá-los no quarto desinfetado de 100 classes, se as bolachas no combinam as especs. do costume, nós retirá-las-emos.

 

A largura completa da metade-altura (FWHM) é uma expresso da escala das funções dadas pela diferença entre dois valores extremos da variável independente igual metade de seu máximo. Ou seja está a uma largura da curva espectral medida entre aqueles pontos na Y-linha central, que é metade da amplitude máxima.

 

Está abaixo um exemplo de curvas de balanço de XRD do material de GaN:

 

Curvas de balanço de XRD do material de GaN

 

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carcaça autônoma de GaN do si-GaN do plano (de 11-22) pela epitaxia da fase de vapor do hidruro

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