10*10mm2 U-GaN GaN Single-Crystal Substrate autônomo

Brand Name:PAM-XIAMEN
Minimum Order Quantity:1-10,000pcs
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carcaça autônoma de 10*10mm2 U-GaN GaN

 

PAM-XIAMEN estabeleceu a tecnologia de fabricaço para (nitreto do gálio) a bolacha autônoma da carcaça de GaN que é para UHB-LED e LD. Crescido pela tecnologia de (HVPE) da epitaxia da fase de vapor do hidruro, nossa carcaça de GaN tem a baixa densidade do defeito e o menos ou densidade macro livre do defeito.

 

PAM-XIAMEN oferece a série completa de GaN e os materiais relacionados de III-N que incluem carcaças de GaN de várias orientações e condutibilidade elétrica, moldes do crystallineGaN&AlN, e epiwafers feitos sob encomenda de III-N.

 

 

Mostra aqui a especificaço de detalhe:

 

carcaça autônoma de 10*10mm2 U-GaN GaN

 

ArtigoPAM-FS-GaN-50-U
Dimenso10 x 10,5 milímetros2
Espessura350 ±25 µm do µm 430±25
OrientaçoPlano de C (0001) fora do ngulo para a M-linha central 0,35 ±0.15°
Tipo da conduçoN-tipo
Resistividade (300K)< 0,1 Ω·cm
TTVµm do ≤ 10
CURVA-10 µm do ≤ 10 da CURVA do ≤ do µm
Aspereza de superfície:

Parte anterior: Ra<0.2nm, epi-pronto;

Verso: Terra fina ou lustrado.

Densidade de deslocaçoDe 1 x de 105 a 5x 106 cm-2 (calculado pelo CL) *
Densidade macro do defeito0 cm2
Área útil> 90% (excluso da borda)

 

Pacote

cada um no único recipiente da bolacha, sob a atmosfera do nitrogênio, embalada no quarto desinfetado da classe 100

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

carcaça autônoma de 10*10mm2 U-GaN GaN

A carcaça do GaN de PAM-XIAMEN (nitreto do gálio) é carcaça singlecrystal com de alta qualidade, que é feito com método de HVPE e tecnologia de processamento originais da bolacha. So uniformidade altamente cristalina, boa, e qualidade de superfície superior. As carcaças de GaN so usadas para muitos tipos dos pedidos, para o diodo emissor de luz branco e o LD (violeta, azul e verde), além disso o desenvolvimento progrediu para aplicações do dispositivo eletrónico do poder e da alta frequência.

 

A tecnologia de GaN é usada em aplicações de alta potência numerosas tais como fontes industriais, do consumidor e do servidor de alimentaço, movimentaço solar, da C.A. e inversores de UPS, e carros híbridos e bondes. Além disso, GaN é serido idealmente para aplicações do RF tais como estações base, radares e infraestrutura celulares da televiso por cabo nos trabalhos em rede, setores do espaço aéreo e da defesa, agradecimentos a sua força alta da diviso, figura de baixo nível de ruído e linearidades altas.

 

 

RELATÓRIO de balanço do Material-TESTE das curvas-GaN de XRD

 

Um relatório de teste é necessário para mostrar a conformidade entre a descriço feita sob encomenda e nossos dados finais das bolachas. Nós testaremos o characerization da bolacha pelo equipamento antes da expediço, testando a aspereza de superfície pelo microscópio atômico da força, o tipo pelo instrumento romano dos espectros, a resistividade pelo equipamento de testes da resistividade do no-contato, a densidade do micropipe pelo microscópio de polarizaço, a orientaço pelo raio X Orientator etc. se as bolachas cumprem a exigência, nós limparemos e para embalá-los no quarto desinfetado de 100 classes, se as bolachas no combinam as especs. do costume, nós retirá-las-emos.

 

A largura completa da metade-altura (FWHM) é uma expresso da escala das funções dadas pela diferença entre dois valores extremos da variável independente igual metade de seu máximo. Ou seja está a uma largura da curva espectral medida entre aqueles pontos na Y-linha central, que é metade da amplitude máxima.

 

Está abaixo um exemplo de curvas de balanço de XRD do material de GaN:

 

 

Curvas de balanço de XRD do material de GaN

 
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10*10mm2 U-GaN GaN Single-Crystal Substrate autônomo

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