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Carcaça autônoma de GaN, tipo de N, Semi-isolando para o Rf, o poder, conduzido e o Ld
Carcaça autônoma de GaN
PAM-XIAMEN estabeleceu a tecnologia de fabricaço para (nitreto do gálio) o autônomo da bolacha da carcaça do de GaN que é para UHB-LED e LD. Crescido pela tecnologia de (HVPE) da epitaxia da fase de vapor do hidruro, nossa carcaça de GaN tem a baixa densidade do defeito e o menos ou densidade macro livre do defeito.
Especificaço da carcaça autônoma de GaN
Mostra aqui a especificaço de detalhe:
carcaça autônoma de GaN de 2 ″ (50.8mm) (nitreto do gálio)
Artigo | PAM-FS-GaN50-N | PAM-FS-GaN50-SI |
Tipo da conduço | N-tipo | Semi-isolamento |
Tamanho | ″ 2 (50,8) +/-1mm | |
Espessura | 330-450um | |
Orientaço | C-linha central (0001) +/-0.5° | |
Lugar liso preliminar | (1-100) +/-0.5° | |
Comprimento liso preliminar | 16+/-1mm | |
Lugar liso secundário | (11-20) +/-3° | |
Comprimento liso secundário | 8+/-1mm | |
Resistividade (300K) | <0> | >106Ω·cm |
Densidade de deslocaço | <5x106cm-2> | |
Densidade do defeito de Marco | Um grade2cm-2<> | |
TTV | <> | |
CURVA | <> | |
Revestimento de superfície | Superfície dianteira: Ra<0> | |
Superfície traseira: terra 1.Fine | ||
2.Rough grinded | ||
Área útil | ≥ 90% |
carcaça autônoma de GaN de 1,5 ″ (38.1mm)
Artigo | PAM-FS-GaN38-N | PAM-FS-GaN38-SI | |
Tipo da conduço | N-tipo | Semi-isolamento | |
Tamanho | ″ 1,5 (38,1) +/-0.5mm | ||
Espessura | 330-450um | ||
Orientaço | C-linha central (0001) +/-0.5o | ||
Lugar liso preliminar | (1-100) +/-0.5o | ||
Comprimento liso preliminar | 12+/-1mm | ||
Lugar liso secundário | (11-20) +/-3o | ||
Comprimento liso secundário | 6+/-1mm | ||
Resistividade (300K) | <0> | >106Ω·cm | |
Densidade de deslocaço | <5x106cm-2> | ||
Densidade do defeito de Marco | Um grade2cm-2<> | ||
TTV | <> | ||
CURVA | <> | ||
Revestimento de superfície | Superfície dianteira: Ra<0> | ||
Superfície traseira: terra 1.Fine 2.Rough grinded | |||
Área útil | ≥ 90% |
15mm, 10mm, carcaça autônoma de 5mm GaN
Artigo | PAM-FS-GaN15-N PAM-FS-GaN10-N PAM-FS-GaN5-N | PAM-FS-GaN15-SI PAM-FS-GaN10-SI PAM-FS-GaN5-SI | |
Tipo da conduço | N-tipo | Semi-isolamento | |
Tamanho | 14.0mm*15mm 10.0mm*10.5mm 5.0*5.5mm | ||
Espessura | 330-450um | ||
Orientaço | C-linha central (0001) +/-0.5o | ||
Lugar liso preliminar | |||
Comprimento liso preliminar | |||
Lugar liso secundário | |||
Comprimento liso secundário | |||
Resistividade (300K) | <0> | >106Ω·cm | |
Densidade de deslocaço | <5x106cm-2> | ||
Densidade do defeito de Marco | 0cm-2 | ||
TTV | <> | ||
CURVA | <> | ||
Revestimento de superfície | Superfície dianteira: Ra<0> | ||
Superfície traseira: terra 1.Fine | |||
2.Rough grinded | |||
Área útil | ≥ 90% | ||
Nota:
Bolacha da validaço: Considerando a conveniência do uso, bolacha da validaço da safira do ″ da oferta 2 de PAM-XIAMEN para abaixo da carcaça autônoma de GaN do tamanho de 2 ″
Aplicaço da carcaça de GaN
Iluminaço de circuito integrado: Os dispositivos de GaN so usados como os diodos luminescentes de brilho ultra alto (diodo emissor de luz), tevês, automóveis, e iluminaço geral
Armazenamento de DVD: Diodos láser azuis
Dispositivo de poder: Os dispositivos de GaN so usados como vários componentes na eletrônica de poder de alta potência e de alta frequência como estações base, satélites, amplificadores de potência, e inversores/conversores celulares para veículos elétricos (EV) e veículos elétricos híbridos (HEV). A baixa sensibilidade de GaN radiaço ionizante (como outros nitretos do grupo III) faz-lhe um material apropriado para aplicações spaceborne tais como disposições de célula solar para satélites e dispositivos de alta potência, de alta frequência para uma comunicaço, tempo, e satélites da fiscalizaço
Ideal para o re-crescimento dos Iii-nitretos
Estações base sem fio: Transistor de poder do RF
Acesso de faixa larga sem fio: MMICs de alta frequência, RF-circuitos MMICs
Sensores da presso: MEMS
Sensores do calor: detectores Pyro-bondes
Acondicionamento de poder: Integraço do sinai ambíguo GaN/Si
Eletrônica automotivo: Eletrônica de alta temperatura
Linhas de transmisso de energia: Eletrônica de alta tenso
Sensores do quadro: Detectores UV
Células solares: A diferença de faixa larga de GaN cobre o espectro solar de 0,65 eV ao eV 3,4 (que é praticamente o espectro solar inteiro), fazendo o nitreto do gálio do índio
(InGaN) liga perfeito para criar o material da célula solar. Devido a esta vantagem, as células solares de InGaN crescidas em carcaças de GaN poised para transformar-se um das novas aplicações e do mercado os mais importantes do crescimento para bolachas da carcaça de GaN.
Ideal para HEMTs, FETs