4H queisola sic a bolacha com baixo TTV/BOW/WARP, categoria do manequim, 3" tamanho

Lugar de origem:China
Quantidade de ordem mínima:1-10,000pcs
Termos do pagamento:T/T.
Capacidade da fonte:10.000 bolachas/mês
Tempo de entrega:5-50 dias de trabalho
Nome:Semi isolando sic a bolacha
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Dos Estados-activa
Xiamen Fujian China
Endereço: #506B, centro de negócios de Henghui, No.77, Lingxia Nan Road, zona alta-tecnologia, Huli, Xiamen 361006, China
Fornecedor do último login vezes: No 11 Horas
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4H queisola sic a bolacha com baixo TV/BOW/WARP, categoria do manequim, 3" tamanho

 

PAM-XIAMEN fornece a bolacha de alta qualidade do único cristal sic (carboneto de silicone) para a indústria eletrônica e optoelectronic. Sic a bolacha é propriedades elétricas originais de um materialwith do semicondutor da próxima geraço e propriedades térmicas excelentes para a aplicaço do dispositivo da alta temperatura e de poder superior. Sic a bolacha pode ser fornecida no dimetro 2~6 polegadas, 4H e 6H sic, N-tipo, nitrogênio lubrificado, e tipo deisolamento disponível.

 

Aplicaço de Semi-isolar sic a bolacha do manequim:

Sic o manequim que a bolacha pode se usar dentro pesquisa de campos térmicos e mecnicos, e a aplicaço do detalhe deve ser como segue:

1. Pesquisa na condutibilidade sic térmica
2.Researches sic do fono
3.Resarches sic na dureza e em propriedades mecnicas

 

Contacte-nos por favor para mais informaço:

PROPRIEDADES DE SEMI-ISOLAR O MATERIAL DO CARBONETO DE SILICONE

 

PolytypeÚnico cristal 4HÚnico cristal 6H
Parmetros da estruturaa=3.076 Åa=3.073 Å
 c=10.053 Åc=15.117 Å
Empilhando a sequênciaABCBABCACB
Faixa-GapeV 3,26eV 3,03
Densidade3,21 · 103 kg/m33,21 · 103 kg/m3
Therm. Coeficiente da expanso4-5×10-6/K4-5×10-6/K
Índice da refraçonenhuns = 2,719nenhuns = 2,707
 ne = 2,777ne = 2,755
Constante dielétrica9,69,66
Condutibilidade térmica490 W/mK490 W/mK
Campo bonde da diviso2-4 · 108 V/m2-4 · 108 V/m
Velocidade de traço da saturaço2,0 · 105 m/s2,0 · 105 m/s
Mobilidade de elétron800 cm2/V·S400 cm2/V·S
mobilidade de furo115 cm2/V·S90 cm2/V·S
Dureza de Mohs~9~9

 

 

 

4H queisola sic a bolacha, categoria do manequim, 3" tamanho

 

PROPRIEDADE DA CARCAÇAS4H-51-SI-PWAM-250 S4H-51-SI-PWAM-330 S4H-51-SI-PWAM-430
DescriçoCarcaça da categoria 4Hda produçoSEMI
Polytype4H
Dimetro(50,8 ± 0,38) milímetro
Espessura(250 ± 25) μm do μm do μm (330 ± 25) (430 ± 25)
Resistividade (RT)>1E5 Ω·cm
Aspereza de superfície< 0="">
FWHM<30 arcsec="">
Densidade de MicropipeA+≤1cm-2 A≤10cm-2 B≤30cm-2 C≤50cm-2 D≤100cm-2
Orientaço de superfície
No ± <0001>0.5° da linha central
Fora da linha central 3.5° para <11-20>o ± 0.5°
Orientaço lisa preliminar± 5° da paralela {1-100}
Comprimento liso preliminar± 16,00 1,70 milímetros
Si-cara lisa secundária da orientaço: 90° cw. do ± liso 5° da orientaço
C-cara: ccw de 90°. do ± liso 5° da orientaço
Comprimento liso secundário± 8,00 1,70 milímetros
Revestimento de superfícieCara simples ou duplo lustrada
EmpacotamentoÚnica caixa da bolacha ou multi caixa da bolacha
Área útil≥ 90%
Excluso da borda1 milímetro

 

defeitos sic de cristal

A maioria dos defeitos que foram observados dentro sic foram observados igualmente em outros materiais cristalinos. Como as deslocações, as falhas de empilhamento (SFs), os limites (LABs) do baixo ngulo e os gêmeos. Alguns outro aparecem nos materiais que têm a mistura do zing ou a estrutura de Wurtzite, como o IDBs. Micropipes e as inclusões de outras fases aparecem principalmente dentro sic.

 

Falta histórica sic de bolachas

As bolachas reprodutíveis da consistência, do tamanho, da qualidade, e da disponibilidade razoáveis so uma produço em massa forcommercial necessária de eletrônica do semicondutor. Muitos materiais do semicondutor podem ser meltedand recrystallized reprodutivelmente em grandes únicos cristais com o auxílio de um cristal de semente, como no método do theCzochralski empregado na fabricaço de quase todas as bolachas de silicone, permitindo razoavelmente largewafers de ser mass produced. Contudo, porque sublimes sic em vez do derretimento razoavelmente em attainablepressures, sic no pode ser crescido por técnicas convencionais do derretimento-crescimento. Antes de 1980, os dispositivos eletrónicos do experimentalSiC foram limitados ao plateletsgrown sic de cristal pequeno (tipicamente ~1), irregularmente dado forma enquanto um byproduct do processo de Acheson para fabricar abrasivos industriais (por exemplo, lixa) ou pelo processo de Lely. No processo de Lely, sublimed sic dos attemperatures policristalinos do pó perto de 2500°C so condensados sic aleatoriamente nas paredes de uma cavidade que forma plaqueta pequenas, hexagonallyshaped. Quando estes cristais pequenos, irreproduzíveis permitiram algum sic electronicsresearch básico, no eram claramente apropriados para a produço em massa do semicondutor. Como tal, o silicone transformou-se semicondutor thedominant que abastece a revoluço de tecnologia de circuito integrado, quando o interesse em microelectronicswas SIC-baseados limitou.

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4H queisola sic a bolacha com baixo TTV/BOW/WARP, categoria do manequim, 3" tamanho

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