O tipo de N, Si-lubrificou a carcaça do GaAs (arsenieto de gálio), 3", categoria do manequim

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N datilografa, a carcaça do GaAs, 3", categoria do manequim

 

PAM-XIAMEN desenvolve e fabrica o cristal e a bolacha do arsenieto do carcaça-gálio do semicondutor composto. Nós usamos tecnologia avançada do crescimento de cristal, o gelo vertical do inclinaço (VGF) e a tecnologia de processamento da bolacha do arsenieto de gálio (GaAs). As propriedades elétricas exigidas so obtidas adicionando entorpecentes tais como o silicone ou o zinco. O resultado é n-tipo ou p-tipo alto-resistência (>10^7 ohm.cm) ou semicondutores da baixo-resistência (<10 - 2 ohm.cm). As superfícies da bolacha esto geralmente epi-prontas (extremamente - baixa contaminaço) isto é sua qualidade so apropriadas para o uso direto em processos epitaxial.

 

Bolachas do arsenieto de gálio (GaAs) para aplicações do diodo emissor de luz

ArtigoEspecificações 
Tipo da conduçoSC/n-type
Método do crescimentoVGF
EntorpecenteSilicone
Bolacha Diamter3, polegada
Orientaço de cristal(100) 2°/6°/15° fora de (110)
DEEJ ou E.U.
Concentraço de portador

(0.4~2.5) E18/cm3

 

Resistividade no RT(1.5~9) E-3 Ohm.cm
Mobilidade

1500~3000cm2/V.sec

 

Densidade do poço gravura em gua forte<5000/cm2
Marcaço do laser

mediante solicitaço

 

Revestimento de superfície

P/E ou P/P

 

Espessura

220~450um

 

Epitaxia prontaSim
PacoteÚnica recipiente ou gaveta da bolacha

 

 

Bolachas do arsenieto de gálio (GaAs) para aplicações do LD

 

ArtigoEspecificaçõesObservações
Tipo da conduçoSC/n-type 
Método do crescimentoVGF 
EntorpecenteSilicone 
Bolacha Diamter3, polegadaLingote ou como-corte disponível
Orientaço de cristal(100) 2°/6°/15°off (110)O outro misorientation disponível
DEEJ ou E.U. 
Concentraço de portador(0.4~2.5) E18/cm3 
Resistividade no RT(1.5~9) E-3 Ohm.cm 
Mobilidade1500~3000 cm2/V.sec 
Densidade do poço gravura em gua forte<500/cm2 
Marcaço do lasermediante solicitaço 
Revestimento de superfícieP/E ou P/P 
Espessura220~350um 
Epitaxia prontaSim 
PacoteÚnica recipiente ou gaveta da bolacha

Propriedades do cristal do GaAs

PropriedadesGaAs 
Atoms/cm34,42 x 1022 
Peso atômico144,63 
Campo da divisoaproximadamente 4 x 105 
Estrutura de cristalZincblende 
Densidade (g/cm3)5,32 
Constante dielétrica13,1 
Densidade eficaz dos estados na faixa de conduço, Nc (cm-3)4,7 x 1017 
Densidade eficaz dos estados na faixa do Valence, nanovolt (cm-3)7,0 x 1018 
Afinidade de elétron (v)4,07 
Energia Gap em 300K (eV)1,424 
Concentraço de portador intrínseco (cm-3)1,79 x 106 
Comprimento de Debye intrínseco (mícrons)2250 
Resistividade intrínseca (ohm-cm)108 
Constante da estrutura (ångströms)5,6533 
Coeficiente linear da expanso térmica,6,86 x 10-6 
ΔL/L/ΔT (1 DEG C) 
Ponto de derretimento (DEG C)1238 
Vida do portador de minoria (s)aproximadamente 10-8 
Mobilidade (traço)8500 
(cm2 de /V-s) 
µn, elétrons 
Mobilidade (traço)400 
(cm2 de /V-s) 
µp, furos 
Energia ótica (eV) do fono0,035 
Trajeto livre médio do fono (ångströms)58 
 
Calor específico0,35 
(J/g-deg C) 
Condutibilidade térmica em 300 K0,46 
(W/cm-degC) 
Diffusivity térmico (cm2/segundo)0,24 
Presso de vapor (Pa)100 em 1050 DEG C; 
1 em 900 DEG C 

 

 
Comprimento de ondaÍndice
(µm)
2,63,3239
2,83,3204
33,3169
3,23,3149
3,43,3129
3,63,3109
3,83,3089
43,3069
4,23,3057
4,43,3045
4,63,3034
4,83,3022
53,301
5,23,3001
5,43,2991
5,63,2982
5,83,2972
63,2963
6,23,2955
6,43,2947
6,63,2939
6,83,2931
73,2923
7,23,2914
7,43,2905
7,63,2896
7,83,2887
83,2878
8,23,2868
8,43,2859
8,63,2849
8,83,284
93,283
9,23,2818
9,43,2806
9,63,2794
9,83,2782
103,277
10,23,2761
10,43,2752
10,63,2743
10,83,2734
113,2725
11,23,2713
11,43,2701
11,63,269
11,83,2678
123,2666
12,23,2651
12,43,2635
12,63,262
12,83,2604
133,2589
13,23,2573
13,43,2557
13,63,2541

 

Que é bolacha do GaAs?

O arsenieto de gálio (GaAs) é um composto dos elementos gálio e arsênico. É um semicondutor direto da diferença de faixa de III-V com uma estrutura de cristal de blenda de zinco.

A bolacha do GaAs é um material importante do semiconducor. Pertence para agrupar o semicondutor de composto de III-V. É um tipo estrutura do sphalerite de estrutura com uma constante da estrutura de 5.65x 10-10m, um ponto de derretimento do ℃ 1237 e uma diferença de faixa de 1,4 EV. O arsenieto de gálio pode ser feito semi em isolar materiais altos da resistência com resistividade mais altamente do que o silicone e o germnio por mais de três ordens de grandeza, que podem ser usados para fazer a carcaça do circuito integrado, o detector infravermelho, o detector do foto do γ, etc. Porque sua mobilidade de elétron é 5-6 cronometra maior do que isso do silicone, foi amplamente utilizada em dispositivos da micro-ondas e em circuitos digitais de alta velocidade. O dispositivo de semicondutor feito do GaAs tem as vantagens da resistência da alta frequência, a de alta temperatura e a baixa de temperatura, de baixo nível de ruído e forte de radiaço. Além, pode igualmente ser usado para fazer dispositivos do efeito de maioria.

 

Que é as propriedades óticas da bolacha do GaAs?

R.I. infravermelho3,3
Coeficiente Radiative da recombinaço7·10-10 cm3/s

R.I. infravermelho

n = k1/2 = 3,255·(1 + 4,5·10-5T)
para o n= 3,299 de 300 K

Longo-onda energia do fono

hνTO = 33,81·(1 - 5,5·10-5 T) (meV)
para o hνTO de 300 K = meV 33,2

energia do fono da Longo-onda LO

hνLO= 36,57·(1 - 4·10-5 T) (meV)
para o hνLO de 300 K = meV 36,1

 

R.I. n contra a energia do foto para uma alto-pureza GaAs. (no~5·1013 cm-3).
A curva contínua é deduzida das medidas da reflectncia do dois-feixe em 279 K. Escuro que os círculos so obtidos das medidas da refraço. Os círculos claros so calculados da análise de Kramers-Kronig
 
Refletividade normal da incidência contra a energia do foto.
.
Coeficiente de absorço intrínseco perto do limite de absorço intrínseco para temperaturas diferentes.
 

Um meV da energia RX1= 4,2 de Rydberg do estado terra

O limite de absorço intrínseco em 297 K na lubrificaço diferente nivela. n-tipo lubrificaço
 
O limite de absorço intrínseco em 297 K na lubrificaço diferente nivela. p-tipo lubrificaço
 
O coeficiente de absorço contra a energia do foto da borda intrínseca ao eV 25.
 
Absorço livre do portador contra o comprimento de onda a níveis de lubrificaço diferentes, 296 K
As concentrações do elétron da conduço so:
1. 1,3·1017cm-3; 2. 4,9·1017cm-3; 3. 1018cm-3; 4. 5,4·1018cm-3
Absorço livre do portador contra o comprimento de onda em temperaturas diferentes.
nenhuns = 4,9·1017cm-3
As temperaturas so: 1. 100 K; 2. 297 K; 3. 443 K.

Em 300 K

Para λ~2 µm α =6·10-18 nenhum (cm-1) (nenhum - no cm-1)
Para o λ > 4µm e 1017<no<1018cm-3α ≈ 7,5·10-20no·λ3 (cm-1) (nenhum - em cm-3, λ - µm)

 

Você está procurando a carcaça do GaAs?

PAM-XIAMEN é orgulhoso oferecer a carcaça do fosforeto de índio para todos os tipos diferentes dos projetos. Se você está procurando bolachas do GaAs, envie-nos o inquérito hoje para aprender mais sobre como nós podemos trabalhar com você para lhe obter as bolachas que do GaAs você precisa para seu projeto seguinte. Nossa equipe do grupo está olhando para a frente a proporcionar produtos de qualidade e o serviço excelente para você!

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