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N datilografa, a carcaça do InP, 3", categoria principal
PAM-XIAMEN oferece a bolacha do InP – fosforeto de índio que so crescidos por LEC (Czochralski encapsulado líquido) ou por VGF (gelo vertical do inclinaço) como a categoria epi-pronta ou mecnica com tipo de n, tipo de p ou semi-isolamento na orientaço diferente (111) ou (100).
O fosforeto de índio (InP) é um semicondutor binário composto do índio e do fósforo. Tem (de “blenda zinco ") uma estrutura de cristal cúbica cara-centrada, idêntica quela do GaAs e maioria dos semicondutores de III-V. O fosforeto de índio pode ser preparado da reaço do iodeto do fósforo branco e do índio [esclarecimento necessário] em 400 °C., [5] igualmente pela combinaço direta dos elementos refinados na alta temperatura e na presso, ou pela decomposiço térmica de uma mistura de um composto e de um fosforeto do índio do trialkyl. O InP é usado na eletrônica de alta potência e de alta frequência [citaço necessária] devido a sua velocidade superior do elétron no que diz respeito aos semicondutores mais comuns silicone e ao arsenieto de gálio.
N datilografa, a carcaça do InP, 3", categoria principal
3" especificaço da bolacha do InP | ||||
Artigo | Especificações | |||
Tipo da conduço | N-tipo | N-tipo | ||
Entorpecente | Undoped | Enxofre | ||
Dimetro da bolacha | 3" | |||
Orientaço da bolacha | 100±0.5° | |||
Espessura da bolacha | 600±25um | |||
Comprimento liso preliminar | 16±2mm | |||
Comprimento liso secundário | 8±1mm | |||
Concentraço de portador | ≤3x1016cm-3 | (0.8-6) x1018cm-3 | (0.6-6) x1018cm-3 | N/A |
Mobilidade | (3.5-4) x103cm2/V.s | (1.5-3.5) x103cm2/V.s | 50-70cm2/V.s | >1000cm2/V.s |
Resistividade | N/A | N/A | N/A | >0.5x107Ω.cm |
EPD | <1000cm-2 | <500cm-2 | <1x103cm-2 | <5x103cm-2 |
TTV | <12um | |||
CURVA | <12um | |||
URDIDURA | <15um | |||
Marcaço do laser | mediante solicitaço | |||
Revestimento de Suface | P/E, P/P | |||
Epi pronto | sim | |||
Pacote | Única recipiente ou gaveta da bolacha |
A maioria de bolachas do teste so as bolachas que caíram fora das especificações principais. As bolachas do teste podem ser usadas para correr as maratonas, equipamento de teste e para a parte alta R & D. So frequentemente uma alternativa eficaz na reduço de custos para aprontar bolachas.
A mobilidade de salo do elétron contra a temperatura para a
lubrificaço diferente nivela. Curva inferior - no=Nd-Na=8·1017 cm-3; Curva média - no=2·1015 cm-3; Curva superior - no=3·1013 cm-3. (Razeghi e outros [1988]) e ( de Walukiewicz e outros [1980]). | |
Mobilidade de salo do elétron contra a temperatura (altas
temperaturas): Curva inferior - no=Nd-Na~3·1017 cm-3; Curva média - no~1.5·1016 cm-3; Curva superior - no~3·1015 cm-3. (Galavanov e Siukaev [1970]). |
µn = (4.2÷5.4)·103·(300/T) (cm2V-1 s-1)
Mobilidade de salo contra a concentraço do elétron para relações
diferentes da compensaço. θ = Na/Nd, 77 K. As curvas tracejadas so cálculos teóricos: 1. θ = 0; 2. θ = 0,2; 3. θ = 0,4; 4. θ = 0,6; 5. θ = 0,8; ( do de Walukiewicz e outros [1980]). A linha contínua é valores observados do meio ( do de Anderson e outros [1985]). | |
Mobilidade de salo contra a concentraço do elétron para relações
diferentes da compensaço θ =Na/Nd, 300 K. As curvas tracejadas so cálculos teóricos: 1. θ = 0; 2. θ = 0,2; 3. θ = 0,4; 4. θ = 0,6; 5. θ = 0,8; ( do de Walukiewicz e outros [1980]). A linha contínua é valores observados do meio ( do de Anderson e outros [1985]). |
Μ=ΜOH/[1+ (Nd/107) 1/2],
onde ΜOH=5000 cm2V-1 s-1,
Nd em cm-3 (Hilsum [1974])
Em 300 K, o fator rn≈1 de Salo do elétron no n-InP.
para Nd > 1015 cm-3.
Fure a mobilidade de salo contra a temperatura para níveis de
lubrificaço diferentes (do Zn). Concentraço de furo em 300 K: 1. 1,75·1018 cm-3; 2. 3,6·1017 cm-3; 3. 4,4·1016 cm-3. θ=Na/Nd~0.1. ( do de Kohanyuk e outros [1988]). |
µpH~150·(300/T) 2,2 (cm2V-1 s-1).
Mobilidade de salo do furo contra a densidade do furo, 300 K (Wiley
[1975]). A fórmula aproximada para a mobilidade de salo do furo: µp=µpo/[1 + (Na/2·1017) 1/2], onde µpo~150 cm2V-1 s-1, Na em cm-3 |
Em 300 K, o fator do furo no p-InP puro: rp~1
O InP baseou lasers e o diodo emissor de luz pode emitir-se a luz na escala muito larga de 1200 nanômetro até o µm 12. Esta luz é usada para aplicações baseadas fibra das telecomunicações e do Datacom em todas as áreas do mundo digitalised. A luz é usada igualmente detectando aplicações. Em uma mo há as aplicações espectroscópicas, onde um determinado comprimento de onda é precisado de interagir com a matéria para detectar gás altamente diluídos por exemplo. O terahertz Optoelectronic é usado em analisadores espectroscópicas ultrassensíveis, medidas da espessura dos polímeros e para a detecço de revestimentos multilayer na indústria automóvel. Por outro lado há um benefício enorme de lasers específicos do InP porque so cofre forte do olho. A radiaço é absorvida no corpo vítreo do olho humano e no pode prejudicar a retina. Os lasers do InP no lidar (detecço clara e agrupamento) sero um componente-chave para a mobilidade do futuro e da indústria da automatizaço.
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