Bolacha de GaSb usada para os detectores infravermelhos, diodo emissor de luz e lasers infravermelhos e transistor, e sistemas de Thermophotovoltaic

Lugar de origem:China
Quantidade de ordem mínima:1-10,000pcs
Termos do pagamento:T/T.
Capacidade da fonte:10.000 bolachas/mês
Tempo de entrega:5-50 dias de trabalho
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Xiamen Fujian China
Endereço: #506B, centro de negócios de Henghui, No.77, Lingxia Nan Road, zona alta-tecnologia, Huli, Xiamen 361006, China
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Bolacha de GaSb usada para os detectores infravermelhos, diodo emissor de luz e lasers infravermelhos e transistor, e sistemas de Thermophotovoltaic

Descriço do produto

PAM-XIAMEN oferece a bolacha de GaSb do semicondutor composto – antimonieto de gálio que so crescidos por LEC (Czochralski encapsulado líquido) como a categoria epi-pronta ou mecnica com tipo de n, tipo de p ou semi-isolamento na orientaço diferente (111) ou (100).

O antimonieto de gálio (GaSb) é um composto semiconducting do gálio e do antimônio da família de III-V. Tem uma constante da estrutura de aproximadamente 0,61 nanômetros. GaSb pode ser usado para os detectores infravermelhos, o diodo emissor de luz e os lasers infravermelhos e os transistor, e sistemas thermophotovoltaic.

Está aqui a especificaço de detalhe:

especificaço da bolacha de GaSb de 2 ″ (50.8mm)

especificaço da bolacha de GaSb de 3 ″ (50.8mm)

especificaço da bolacha de GaSb de 4 ″ (100mm)

especificaço da bolacha de GaSb de 2 ″

ArtigoEspecificações
EntorpecenteUndopedZincoTelúrio
Tipo da conduçoP-tipoP-tipoN-tipo
Dimetro da bolacha2 ″
Orientaço da bolacha(100) ±0.5°
Espessura da bolacha500±25um
Comprimento liso preliminar16±2mm
Comprimento liso secundário8±1mm
Concentraço de portador(1-2) x1017cm-3(5-100) x1017cm-3(1-20) x1017cm-3
Mobilidade600-700cm2/V.s200-500cm2/V.s2000-3500cm2/V.s
EPD<2>3cm2
TTV<10um>
CURVA<10um>
URDIDURA<12um>
Marcaço do lasermediante solicitaço
Revestimento de SufaceP/E, P/P
Epi prontosim
PacoteÚnica recipiente ou gaveta da bolacha

especificaço da bolacha de GaSb de 3 ″

ArtigoEspecificações
Tipo da conduçoP-tipoP-tipoN-tipo
EntorpecenteUndopedZincoTelúrio
Dimetro da bolacha3 ″
Orientaço da bolacha(100) ±0.5°
Espessura da bolacha600±25um
Comprimento liso preliminar22±2mm
Comprimento liso secundário11±1mm
Concentraço de portador(1-2) x1017cm-3(5-100) x1017cm-3(1-20) x1017cm-3
Mobilidade600-700cm2/V.s200-500cm2/V.s2000-3500cm2/V.s
EPD<2>3cm2
TTV<12um>
CURVA<12um>
URDIDURA<15um>
Marcaço do lasermediante solicitaço
Revestimento de SufaceP/E, P/P
Epi prontosim
PacoteÚnica recipiente ou gaveta da bolacha

especificaço da bolacha de GaSb de 4 ″

ArtigoEspecificações
EntorpecenteUndopedZincoTelúrio
Tipo da conduçoP-tipoP-tipoN-tipo
Dimetro da bolacha4 ″
Orientaço da bolacha(100) ±0.5°
Espessura da bolacha800±25um
Comprimento liso preliminar32.5±2.5mm
Comprimento liso secundário18±1mm
Concentraço de portador(1-2) x1017cm-3(5-100) x1017cm-3(1-20) x1017cm-3
Mobilidade600-700cm2/V.s200-500cm2/V.s2000-3500cm2/V.s
EPD<2>3cm2
TTV<15um>
CURVA<15um>
URDIDURA<20um>
Marcaço do lasermediante solicitaço
Revestimento de SufaceP/E, P/P
Epi prontosim
PacoteÚnica recipiente ou gaveta da bolacha

1)″ 2 (50.8mm), bolacha de GaSb de 3 ″ (76.2mm)

Orientaço: (100) ±0.5°
Espessura (μm): 500±25; 600±25
Tipo/entorpecente: P/undoped; P/Si; P/Zn
Nc (cm-3): (1~2) E17
Mobilidade (cm2/V ·s): 600~700
Método do crescimento: CZ
Polonês: SSP

2)bolacha de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientaço: (100) ±0.5°
Espessura (μm): 500±25; 600±25
Tipo/entorpecente: N/undoped; P/Te
Nc (cm-3): (1~5) E17
Mobilidade (cm2/V ·s): 2500~3500
Método do crescimento: LEC
Polonês: SSP

3)bolacha de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientaço: (111) A±0.5°
Espessura (μm): 500±25
Tipo/entorpecente: N/Te; P/Zn
Nc (cm-3): (1~5) E17
Mobilidade (cm2/V ·s): 2500~3500; 200~500
Método do crescimento: LEC
Polonês: SSP

4)bolacha de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientaço: (111) B±0.5°
Espessura (μm): 500±25; 450±25
Tipo/entorpecente: N/Te; P/Zn
Nc (cm-3): (1~5) E17
Mobilidade (cm2/V ·s): 2500~3500; 200~500
Método do crescimento: LEC
Polonês: SSP

5)bolacha de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientaço: (111) B 2deg.off
Espessura (μm): 500±25
Tipo/entorpecente: N/Te; P/Zn
Nc (cm-3): (1~5) E17
Mobilidade (cm2/V ·s): 2500~3500; 200~500
Método do crescimento: LEC
Polonês: SSP

Produtos relativos:
Bolacha de InAs
Bolacha de InSb
Bolacha do InP
Bolacha do GaAs
Bolacha de GaSb
Bolacha de Gap

O antimonieto de gálio (GaSb) pode ser fornecido como bolachas com os revestimentos do como-corte, gravada ou lustrado e está disponível em uma vasta gama de concentraço, de dimetro e de espessura de portador.

O material de GaSb apresenta propriedades interessantes para dispositivos thermophotovoltaic de (TPV) da única junço. GaSb: O único cristal de Te crescido com Czochralski (Cz) ou métodos alterados do chralski de Czo- (Mo-CZ) é apresentado e o problema da homogeneidade de Te é discutido. Porque a mobilidade de portador é um dos pontos-chave para o cristal maioria, as medidas de Salo so realizadas. Nós apresentamos aqui alguns desenvolvimentos complementares baseados no ponto de vista do processamento material: o crescimento de cristal maioria, a preparaço da bolacha, e gravura a água-forte da bolacha. As etapas subsequentes após estes so relacionadas ao p/nenhuma elaboraço da junço de r n/p. Alguns resultados obtidos para aproximações diferentes da elaboraço da fino-camada so apresentados. Assim do processo de difuso simples da fase de vapor ou do processo líquido da epitaxia da fase até o processo orgnico do depósito de vapor químico do metal nós relatamos alguma especificidade material.

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