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PAM-XIAMEN oferece a bolacha de GaSb do semicondutor composto – antimonieto de gálio que so crescidos por LEC (Czochralski encapsulado líquido) como a categoria epi-pronta ou mecnica com tipo de n, tipo de p ou semi-isolamento na orientaço diferente (111) ou (100).
O antimonieto de gálio (GaSb) é um composto semiconducting do gálio e do antimônio da família de III-V. Tem uma constante da estrutura de aproximadamente 0,61 nanômetros. GaSb pode ser usado para os detectores infravermelhos, o diodo emissor de luz e os lasers infravermelhos e os transistor, e sistemas thermophotovoltaic.
Está aqui a especificaço de detalhe:
especificaço da bolacha de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
especificaço da bolacha de GaSb de 3 ″ (50.8mm)
especificaço da bolacha de GaSb de 4 ″ (100mm)
especificaço da bolacha de GaSb de 2 ″
Artigo | Especificações | ||
Entorpecente | Undoped | Zinco | Telúrio |
Tipo da conduço | P-tipo | P-tipo | N-tipo |
Dimetro da bolacha | 2 ″ | ||
Orientaço da bolacha | (100) ±0.5° | ||
Espessura da bolacha | 500±25um | ||
Comprimento liso preliminar | 16±2mm | ||
Comprimento liso secundário | 8±1mm | ||
Concentraço de portador | (1-2) x1017cm-3 | (5-100) x1017cm-3 | (1-20) x1017cm-3 |
Mobilidade | 600-700cm2/V.s | 200-500cm2/V.s | 2000-3500cm2/V.s |
EPD | <2>3cm2 | ||
TTV | <10um> | ||
CURVA | <10um> | ||
URDIDURA | <12um> | ||
Marcaço do laser | mediante solicitaço | ||
Revestimento de Suface | P/E, P/P | ||
Epi pronto | sim | ||
Pacote | Única recipiente ou gaveta da bolacha |
especificaço da bolacha de GaSb de 3 ″
Artigo | Especificações | ||
Tipo da conduço | P-tipo | P-tipo | N-tipo |
Entorpecente | Undoped | Zinco | Telúrio |
Dimetro da bolacha | 3 ″ | ||
Orientaço da bolacha | (100) ±0.5° | ||
Espessura da bolacha | 600±25um | ||
Comprimento liso preliminar | 22±2mm | ||
Comprimento liso secundário | 11±1mm | ||
Concentraço de portador | (1-2) x1017cm-3 | (5-100) x1017cm-3 | (1-20) x1017cm-3 |
Mobilidade | 600-700cm2/V.s | 200-500cm2/V.s | 2000-3500cm2/V.s |
EPD | <2>3cm2 | ||
TTV | <12um> | ||
CURVA | <12um> | ||
URDIDURA | <15um> | ||
Marcaço do laser | mediante solicitaço | ||
Revestimento de Suface | P/E, P/P | ||
Epi pronto | sim | ||
Pacote | Única recipiente ou gaveta da bolacha |
especificaço da bolacha de GaSb de 4 ″
Artigo | Especificações | ||
Entorpecente | Undoped | Zinco | Telúrio |
Tipo da conduço | P-tipo | P-tipo | N-tipo |
Dimetro da bolacha | 4 ″ | ||
Orientaço da bolacha | (100) ±0.5° | ||
Espessura da bolacha | 800±25um | ||
Comprimento liso preliminar | 32.5±2.5mm | ||
Comprimento liso secundário | 18±1mm | ||
Concentraço de portador | (1-2) x1017cm-3 | (5-100) x1017cm-3 | (1-20) x1017cm-3 |
Mobilidade | 600-700cm2/V.s | 200-500cm2/V.s | 2000-3500cm2/V.s |
EPD | <2>3cm2 | ||
TTV | <15um> | ||
CURVA | <15um> | ||
URDIDURA | <20um> | ||
Marcaço do laser | mediante solicitaço | ||
Revestimento de Suface | P/E, P/P | ||
Epi pronto | sim | ||
Pacote | Única recipiente ou gaveta da bolacha |
1)″ 2 (50.8mm), bolacha de GaSb de 3 ″ (76.2mm)
Orientaço: (100) ±0.5°
Espessura (μm): 500±25; 600±25
Tipo/entorpecente: P/undoped; P/Si; P/Zn
Nc (cm-3): (1~2) E17
Mobilidade (cm2/V ·s): 600~700
Método do crescimento: CZ
Polonês: SSP
2)bolacha de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientaço: (100) ±0.5°
Espessura (μm): 500±25; 600±25
Tipo/entorpecente: N/undoped; P/Te
Nc (cm-3): (1~5) E17
Mobilidade (cm2/V ·s): 2500~3500
Método do crescimento: LEC
Polonês: SSP
3)bolacha de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientaço: (111) A±0.5°
Espessura (μm): 500±25
Tipo/entorpecente: N/Te; P/Zn
Nc (cm-3): (1~5) E17
Mobilidade (cm2/V ·s): 2500~3500; 200~500
Método do crescimento: LEC
Polonês: SSP
4)bolacha de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientaço: (111) B±0.5°
Espessura (μm): 500±25; 450±25
Tipo/entorpecente: N/Te; P/Zn
Nc (cm-3): (1~5) E17
Mobilidade (cm2/V ·s): 2500~3500; 200~500
Método do crescimento: LEC
Polonês: SSP
5)bolacha de GaSb de 2 ″ (50.8mm)
Orientaço: (111) B 2deg.off
Espessura (μm): 500±25
Tipo/entorpecente: N/Te; P/Zn
Nc (cm-3): (1~5) E17
Mobilidade (cm2/V ·s): 2500~3500; 200~500
Método do crescimento: LEC
Polonês: SSP
Produtos relativos:
Bolacha de InAs
Bolacha de InSb
Bolacha do InP
Bolacha do GaAs
Bolacha de GaSb
Bolacha de Gap
O antimonieto de gálio (GaSb) pode ser fornecido como bolachas com os revestimentos do como-corte, gravada ou lustrado e está disponível em uma vasta gama de concentraço, de dimetro e de espessura de portador.
O material de GaSb apresenta propriedades interessantes para dispositivos thermophotovoltaic de (TPV) da única junço. GaSb: O único cristal de Te crescido com Czochralski (Cz) ou métodos alterados do chralski de Czo- (Mo-CZ) é apresentado e o problema da homogeneidade de Te é discutido. Porque a mobilidade de portador é um dos pontos-chave para o cristal maioria, as medidas de Salo so realizadas. Nós apresentamos aqui alguns desenvolvimentos complementares baseados no ponto de vista do processamento material: o crescimento de cristal maioria, a preparaço da bolacha, e gravura a água-forte da bolacha. As etapas subsequentes após estes so relacionadas ao p/nenhuma elaboraço da junço de r n/p. Alguns resultados obtidos para aproximações diferentes da elaboraço da fino-camada so apresentados. Assim do processo de difuso simples da fase de vapor ou do processo líquido da epitaxia da fase até o processo orgnico do depósito de vapor químico do metal nós relatamos alguma especificidade material.