Carcaça de CdZnTe do semicondutor usada para diodos e transistor, a janela do IR ou discos óticos, componentes de Opitical

Lugar de origem:China
Quantidade de ordem mínima:1-10,000pcs
Termos do pagamento:T/T.
Capacidade da fonte:10.000 bolachas/mês
Tempo de entrega:5-50 dias de trabalho
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Carcaça de CdZnTe do semicondutor usada para diodos e transistor, janela do Ir ou discos óticos, componentes de Opitical

Descriço do produto

Bolacha do germnio do único cristal (Ge)

Materiais do semicondutor PAM-XIAMENoffers, cristais e bolachas do Ge (germnio) únicos crescidos por VGF/LEC

Propriedades gerais da bolacha do germnio

Estrutura geral das propriedadesCúbico, a = 5,6754 Å
Densidade: 5,765 g/cm3
Ponto de derretimento: 937,4 OC
Condutibilidade térmica: 640
Tecnologia do crescimento de cristalCzochralski
Lubrificaço disponívelUndopedLubrificaço do SbLubrificaço dentro ou GA
Tipo condutor/NP
Resistividade, ohm.cm>35< 0="">0,05 – 0,1
EPD< 5="">< 5="">< 5="">
< 5="">< 5="">< 5="">

 

Categorias e aplicaço da bolacha do germnio

Categoria eletrônicaUsado para diodos e transistor,
Categoria infravermelha ou opiticalUsado para a janela ótica ou os discos do IR, componentes opitical
Categoria da pilhaUsado para carcaças da célula solar

Especs. do padro do cristal e da bolacha do germnio

Orientaço de cristal<111>, <100> e <110> ± 0.5o ou orientaço feita sob encomenda
Boule de cristal como crescido1 ″ ~ dimetro x de 6 ″ um comprimento de 200 milímetros
Placa padro como cortada1 ″ x 0.5mm2 ″ x0.6mm4 ″ x0.7mm5 ″ x0.8mm do ″ &6
Bolacha lustrada padro (uns/dois lados lustrados)1 ″ x 0,30 milímetros2 ″ x0.5mm4 ″ x0.5mm5 ″ x0.6mm do ″ &6

O tamanho e a orientaço especiais esto disponíveis em cima das bolachas pedidas

Especificaço da bolacha do germnio

ArtigoEspecificaçõesObservações
Método do crescimentoVGF 
Tipo da conduçon-tipo, tipo de p, undoped 
EntorpecenteGálio ou antimônio 
Bolacha Diamter2, 3,4 & 6polegada
Orientaço de cristal(100), (111), (110) 
Espessura200~550um
DEEJ ou E.U. 
Concentraço de portadorpedido em cima dos clientes 
Resistividade no RT(0.001~80)Ohm.cm
Densidade do poço gravura em gua forte<5000>/cm2
Marcaço do lasermediante solicitaço 
Revestimento de superfícieP/E ou P/P 
Epi prontoSim 
PacoteÚnica recipiente ou gaveta da bolacha 
especificaço da bolacha de 4 Ge da polegadapara células solares
LubrificaçoP 
Lubrificando substnciasGE-GA 
Dimetro100±0.25 milímetro 
Orientaço(100) 9° fora para <111>+/--0,5
ngulo de inclinaço da Fora-orientaçoN/A 
Orientaço lisa preliminarN/A 
Comprimento liso preliminar32±1milímetro
Orientaço lisa secundáriaN/A 
Comprimento liso secundárioN/Amilímetro
centímetro cúbico(0.26-2.24) E18/c.c
Resistividade(0.74-2.81) E-2ohm.cm
Mobilidade de elétron382-865cm2/v.s.
EPD<300>/cm2
Laser MarkN/A 
Espessura175±10μm
TTV<15μm
TIRN/Aμm
CURVA<10>μm
Urdidura<10μm
Cara dianteiraLustrado 
Cara traseiraTerra 

 

Processo da bolacha do germnio

No processo de produço da bolacha do germnio, o dióxido do germnio do processamento do resíduo é refinado mais em etapas da cloraço e da hidrólise.

1)O germnio da pureza alta é obtido durante a refinaço da zona.

2)Um cristal do germnio é produzido através do processo de Czochralski.

3)A bolacha do germnio é fabricada através de diversos corte, moendo, e gravando etapas.

4)As bolachas so limpadas e inspeço. Durante este processo, as bolachas so único lado lustrado ou o lado dobro lustrado de acordo com a disposiço alfandegária, bolacha epi-pronta vem.

5)As bolachas so embaladas em uns únicos recipientes da bolacha, sob uma atmosfera do nitrogênio.

Aplicaço:

A placa ou a janela do germnio so usadas na viso noturna e em soluções thermographic da imagem latente para a segurança comercial, a luta contra o incêndio e o equipamento de monitoraço industrial. Também, so usados como filtros para analítico e equipamento de mediço, janelas para a medida remota da temperatura, e espelhos para lasers.

As carcaças finas do germnio so usadas em células solares da triplo-junço de III-V e para sistemas concentrados poder do picovolt (CPV).

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