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carcaça autônoma de 10*10mm2 U-GaN GaN
PAM-XIAMEN estabeleceu a tecnologia de fabricação para (nitreto do gálio) a bolacha autônoma da carcaça de GaN que é para UHB-LED e LD. Crescido pela tecnologia de (HVPE) da epitaxia da fase de vapor do hidruro, nossa carcaça de GaN tem a baixa densidade do defeito e o menos ou densidade macro livre do defeito.
PAM-XIAMEN oferece a série completa de GaN e os materiais relacionados de III-N que incluem carcaças de GaN de várias orientações e condutibilidade elétrica, moldes do crystallineGaN&AlN, e epiwafers feitos sob encomenda de III-N.
Mostra aqui a especificação de detalhe:
carcaça autônoma de 10*10mm2 U-GaN GaN
Artigo | PAM-FS-GaN-50-U |
Dimensão | 10 x 10,5 milímetros2 |
Espessura | 350 ±25 µm do µm 430±25 |
Orientação | Plano de C (0001) fora do ângulo para a M-linha central 0,35 ±0.15° |
Tipo da condução | N-tipo |
Resistividade (300K) | < 0,1 Ω·cm |
TTV | µm do ≤ 10 |
CURVA | -10 µm do ≤ 10 da CURVA do ≤ do µm |
Aspereza de superfície: | Parte anterior: Ra<0.2nm, epi-pronto; Verso: Terra fina ou lustrado. |
Densidade de deslocação | De 1 x de 105 a 5x 106 cm-2 (calculado pelo CL) * |
Densidade macro do defeito | 0 cm2 |
Área útil | > 90% (exclusão da borda) |
Pacote | cada um no único recipiente da bolacha, sob a atmosfera do nitrogênio, embalada no quarto desinfetado da classe 100 |
carcaça autônoma de 10*10mm2 U-GaN GaN
A carcaça do GaN de PAM-XIAMEN (nitreto do gálio) é carcaça singlecrystal com de alta qualidade, que é feito com método de HVPE e tecnologia de processamento originais da bolacha. São uniformidade altamente cristalina, boa, e qualidade de superfície superior. As carcaças de GaN são usadas para muitos tipos dos pedidos, para o diodo emissor de luz branco e o LD (violeta, azul e verde), além disso o desenvolvimento progrediu para aplicações do dispositivo eletrónico do poder e da alta frequência.
A tecnologia de GaN é usada em aplicações de alta potência numerosas tais como fontes industriais, do consumidor e do servidor de alimentação, movimentação solar, da C.A. e inversores de UPS, e carros híbridos e bondes. Além disso, GaN é serido idealmente para aplicações do RF tais como estações base, radares e infraestrutura celulares da televisão por cabo nos trabalhos em rede, setores do espaço aéreo e da defesa, agradecimentos a sua força alta da divisão, figura de baixo nível de ruído e linearidades altas.
RELATÓRIO de balanço do Material-TESTE das curvas-GaN de XRD
Um relatório de teste é necessário para mostrar a conformidade entre a descrição feita sob encomenda e nossos dados finais das bolachas. Nós testaremos o characerization da bolacha pelo equipamento antes da expedição, testando a aspereza de superfície pelo microscópio atômico da força, o tipo pelo instrumento romano dos espectros, a resistividade pelo equipamento de testes da resistividade do não-contato, a densidade do micropipe pelo microscópio de polarização, a orientação pelo raio X Orientator etc. se as bolachas cumprem a exigência, nós limparemos e para embalá-los no quarto desinfetado de 100 classes, se as bolachas não combinam as especs. do costume, nós retirá-las-emos.
A largura completa da metade-altura (FWHM) é uma expressão da escala das funções dadas pela diferença entre dois valores extremos da variável independente igual à metade de seu máximo. Ou seja está a uma largura da curva espectral medida entre aqueles pontos na Y-linha central, que é metade da amplitude máxima.
Está abaixo um exemplo de curvas de balanço de XRD do material de GaN:
Curvas de balanço de XRD do material de GaN