XIAMEN POWERWAY AVANÇOU CO. MATERIAL, LTD.

XIAMEN POWERWAY ADVANCED MATERIAL CO., LTD.

Manufacturer from China
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Casa / Produtos / GaAs Wafer /

Semi-isolando, a carcaça do arsenieto de gálio com o CMP lustrado, 4", apronta a categoria

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XIAMEN POWERWAY AVANÇOU CO. MATERIAL, LTD.
Cidade:xiamen
Província / Estado:fujian
País / Região:china
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Semi-isolando, a carcaça do arsenieto de gálio com o CMP lustrado, 4", apronta a categoria

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Lugar de origem :China
Quantidade de ordem mínima :1-10,000pcs
Termos do pagamento :T/T.
Capacidade da fonte :10.000 bolachas/mês
Tempo de entrega :5-50 dias de trabalho
Detalhes de empacotamento :Empacotado em um ambiente do quarto desinfetado da classe 100, no único recipiente, sob uma atmosfer
Nome do produto :Carcaça do arsenieto de gálio
Bolacha Diamter :4 polegadas
Espessura :350~675um
Grau :Categoria principal
Uso :Microeletrônica
Palavra-chave :Bolacha semi de isolamento do Gaas
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Semi-isolando, a carcaça do arsenieto de gálio com o CMP lustrado, 4", apronta a categoria

 

PAM-XIAMEN desenvolve e fabrica o cristal e a bolacha do arsenieto do carcaça-gálio do semicondutor composto. Nós usamos tecnologia avançada do crescimento de cristal, o gelo vertical do inclinação (VGF) e a tecnologia de processamento da bolacha do arsenieto de gálio (GaAs). As propriedades elétricas exigidas são obtidas adicionando entorpecentes tais como o silicone ou o zinco. O resultado é n-tipo ou p-tipo alto-resistência (>10^7 ohm.cm) ou a baixo-resistência (<10 -="" 2="" ohm="">

 

Bolachas do arsenieto de gálio (GaAs), Semi-isolando para aplicações da microeletrônica

Artigo Especificações Observações
Tipo da condução Isolamento  
Método do crescimento VGF  
Entorpecente Undoped  
Bolacha Diamter 4, polegada Lingote disponível
Orientação de cristal (100) +/- 0.5°  
DE EJ, E.U. ou entalhe  
Concentração de portador n/a  
Resistividade no RT >1E7 Ohm.cm  
Mobilidade >5000 cm2/V.sec  
Densidade do poço gravura em àgua forte <8000>  
Marcação do laser mediante solicitação  
Revestimento de superfície P/P  
Espessura 350~675um  
Epitaxia pronta Sim  
Pacote Única recipiente ou gaveta da bolacha

 

Propriedades do cristal do GaAs

Propriedades GaAs
Atoms/cm3 4,42 x 1022
Peso atômico 144,63
Campo da divisão aproximadamente 4 x 105
Estrutura de cristal Zincblende
Densidade (g/cm3) 5,32
Constante dielétrica 13,1
Densidade eficaz dos estados na faixa de condução, Nc (cm-3) 4,7 x 1017
Densidade eficaz dos estados na faixa do Valence, nanovolt (cm-3) 7,0 x 1018
Afinidade de elétron (v) 4,07
Energia Gap em 300K (eV) 1,424
Concentração de portador intrínseco (cm-3) 1,79 x 106
Comprimento de Debye intrínseco (mícrons) 2250
Resistividade intrínseca (ohm-cm) 108
Constante da estrutura (ångströms) 5,6533
Coeficiente linear da expansão térmica, 6,86 x 10-6
ΔL/L/ΔT (1 DEG C)
Ponto de derretimento (DEG C) 1238
Vida do portador de minoria (s) aproximadamente 10-8
Mobilidade (tração) 8500
(cm2 de /V-s)
µn, elétrons
Mobilidade (tração) 400
(cm2 de /V-s)
µp, furos
Energia ótica (eV) do fonão 0,035
Trajeto livre médio do fonão (ångströms) 58
Calor específico 0,35
(J/g-deg C)
Condutibilidade térmica em 300 K 0,46
(W/cm-degC)
Diffusivity térmico (cm2/segundo) 0,24
Pressão de vapor (Pa) 100 em 1050 DEG C;
1 em 900 DEG C

 

 
Comprimento de onda Índice
(µm)
2,6 3,3239
2,8 3,3204
3 3,3169
3,2 3,3149
3,4 3,3129
3,6 3,3109
3,8 3,3089
4 3,3069
4,2 3,3057
4,4 3,3045
4,6 3,3034
4,8 3,3022
5 3,301
5,2 3,3001
5,4 3,2991
5,6 3,2982
5,8 3,2972
6 3,2963
6,2 3,2955
6,4 3,2947
6,6 3,2939
6,8 3,2931
7 3,2923
7,2 3,2914
7,4 3,2905
7,6 3,2896
7,8 3,2887
8 3,2878
8,2 3,2868
8,4 3,2859
8,6 3,2849
8,8 3,284
9 3,283
9,2 3,2818
9,4 3,2806
9,6 3,2794
9,8 3,2782
10 3,277
10,2 3,2761
10,4 3,2752
10,6 3,2743
10,8 3,2734
11 3,2725
11,2 3,2713
11,4 3,2701
11,6 3,269
11,8 3,2678
12 3,2666
12,2 3,2651
12,4 3,2635
12,6 3,262
12,8 3,2604
13 3,2589
13,2 3,2573
13,4 3,2557
13,6 3,2541
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