XIAMEN POWERWAY AVANÇOU CO. MATERIAL, LTD.

XIAMEN POWERWAY ADVANCED MATERIAL CO., LTD.

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Semi - isolando, carcaça do GaAs, 2", categoria mecânica

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XIAMEN POWERWAY AVANÇOU CO. MATERIAL, LTD.
Cidade:xiamen
Província / Estado:fujian
País / Região:china
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Semi - isolando, carcaça do GaAs, 2", categoria mecânica

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Brand Name :PAM-XIAMEN
Place of Origin :China
MOQ :1-10,000pcs
Payment Terms :T/T
Supply Ability :10,000 wafers/month
Delivery Time :5-50 working days
Packaging Details :Packaged in a class 100 clean room environment, in single container, under a nitrogen atmosphere
product name :Semi Insulating Gaas Wafer
Wafer Diamter :2″
Thickness :350~675um
Grade :Mechanical Grade
usage :Microelectronics Application
keyword :semiconductor substrates gallium arsenide wafer
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Semi-isolando, carcaça do GaAs, 2", categoria mecânica

PAM-XIAMEN desenvolve e fabrica o cristal e a bolacha do arsenieto do carcaça-gálio do semicondutor composto. Nós usamos tecnologia avançada do crescimento de cristal, o gelo vertical do inclinação (VGF) e a tecnologia de processamento da bolacha do arsenieto de gálio (GaAs). As propriedades elétricas exigidas são obtidas adicionando entorpecentes tais como o silicone ou o zinco. O resultado é n-tipo ou p-tipo alto-resistência (>10^7 ohm.cm) ou semicondutores da baixo-resistência (<10 - 2 ohm.cm). As superfícies da bolacha estão geralmente epi-prontas (extremamente - baixa contaminação) isto é sua qualidade são apropriadas para o uso direto em processos epitaxial.

 

Bolachas do arsenieto de gálio (GaAs), Semi-isolando para aplicações da microeletrônica

Artigo Especificações Observações
Tipo da condução Isolamento  
Método do crescimento VGF  
Entorpecente Undoped  
Bolacha Diamter 2, polegada Lingote disponível
Orientação de cristal (100) +/- 0.5°  
DE EJ, E.U. ou entalhe  
Concentração de portador n/a  
Resistividade no RT >1E7 Ohm.cm  
Mobilidade >5000 cm2/V.sec  
Densidade do poço gravura em àgua forte <8000 /cm2  
Marcação do laser mediante solicitação  
Revestimento de superfície P/P  
Espessura 350~675um  
Epitaxia pronta Sim  
Pacote Única recipiente ou gaveta da bolacha

 

Propriedades do cristal do GaAs

Propriedades GaAs
Atoms/cm3 4,42 x 1022
Peso atômico 144,63
Campo da divisão aproximadamente 4 x 105
Estrutura de cristal Zincblende
Densidade (g/cm3) 5,32
Constante dielétrica 13,1
Densidade eficaz dos estados na faixa de condução, Nc (cm-3) 4,7 x 1017
Densidade eficaz dos estados na faixa do Valence, nanovolt (cm-3) 7,0 x 1018
Afinidade de elétron (v) 4,07
Energia Gap em 300K (eV) 1,424
Concentração de portador intrínseco (cm-3) 1,79 x 106
Comprimento de Debye intrínseco (mícrons) 2250
Resistividade intrínseca (ohm-cm) 108
Constante da estrutura (ångströms) 5,6533
Coeficiente linear da expansão térmica, 6,86 x 10-6
ΔL/L/ΔT (1 DEG C)
Ponto de derretimento (DEG C) 1238
Vida do portador de minoria (s) aproximadamente 10-8
Mobilidade (tração) 8500
(cm2 de /V-s)
µn, elétrons
Mobilidade (tração) 400
(cm2 de /V-s)
µp, furos
Energia ótica (eV) do fonão 0,035
Trajeto livre médio do fonão (ångströms) 58
Calor específico 0,35
(J/g-deg C)
Condutibilidade térmica em 300 K 0,46
(W/cm-degC)
Diffusivity térmico (cm2/segundo) 0,24
Pressão de vapor (Pa) 100 em 1050 DEG C;
1 em 900 DEG C

 

Comprimento de onda Índice
(µm)
2,6 3,3239
2,8 3,3204
3 3,3169
3,2 3,3149
3,4 3,3129
3,6 3,3109
3,8 3,3089
4 3,3069
4,2 3,3057
4,4 3,3045
4,6 3,3034
4,8 3,3022
5 3,301
5,2 3,3001
5,4 3,2991
5,6 3,2982
5,8 3,2972
6 3,2963
6,2 3,2955
6,4 3,2947
6,6 3,2939
6,8 3,2931
7 3,2923
7,2 3,2914
7,4 3,2905
7,6 3,2896
7,8 3,2887
8 3,2878
8,2 3,2868
8,4 3,2859
8,6 3,2849
8,8 3,284
9 3,283
9,2 3,2818
9,4 3,2806
9,6 3,2794
9,8 3,2782
10 3,277
10,2 3,2761
10,4 3,2752
10,6 3,2743
10,8 3,2734
11 3,2725
11,2 3,2713
11,4 3,2701
11,6 3,269
11,8 3,2678
12 3,2666
12,2 3,2651
12,4 3,2635
12,6 3,262
12,8 3,2604
13 3,2589
13,2 3,2573
13,4 3,2557
13,6 3,2541

 

Que é bolacha do GaAs?

O arsenieto de gálio (GaAs) é um composto dos elementos gálio e arsênico. É um semicondutor direto da diferença de faixa de III-V com uma estrutura de cristal de blenda de zinco.

A bolacha do GaAs é um material importante do semiconducor. Pertence para agrupar o semicondutor de composto de III-V. É um tipo estrutura do sphalerite de estrutura com uma constante da estrutura de 5.65x 10-10m, um ponto de derretimento do ℃ 1237 e uma diferença de faixa de 1,4 EV. O arsenieto de gálio pode ser feito semi em isolar materiais altos da resistência com resistividade mais altamente do que o silicone e o germânio por mais de três ordens de grandeza, que podem ser usados para fazer a carcaça do circuito integrado, o detector infravermelho, o detector do fotão do γ, etc. Porque sua mobilidade de elétron é 5-6 cronometra maior do que isso do silicone, foi amplamente utilizada em dispositivos da micro-ondas e em circuitos digitais de alta velocidade. O dispositivo de semicondutor feito do GaAs tem as vantagens da resistência da alta frequência, a de alta temperatura e a baixa de temperatura, de baixo nível de ruído e forte de radiação. Além, pode igualmente ser usado para fazer dispositivos do efeito de maioria.

Que é as propriedades térmicas da bolacha do GaAs?

Módulo de maioria 7,53·cm2 de 1011 dyn
Ponto de derretimento °C 1240
Calor específico 0,33 J g-1°C -1
Condutibilidade térmica 0,55 °C -1 de W cm-1
Diffusivity térmico 0.31cm2s-1
Expansão térmica, linear 5,73·10-6 °C -1

 

Semi - isolando, carcaça do GaAs, 2 Dependência da temperatura da condutibilidade térmica
n-tipo amostra, nenhuma (cm-3): 1. 1016; 2. 1,4·1016; 3. 1018;
p-tipo amostra, po (cm-3): 4. 3·1018; 5. 1,2·1019.
 
Semi - isolando, carcaça do GaAs, 2 Dependência da temperatura da condutibilidade térmica (para a alta temperatura)
n-tipo amostra, nenhuma (cm-3): 1. 7·1015; 2. 5·1016; 3. 4·1017; 4. 8·1018;
p-tipo amostra, po (cm-3): 5. 6·1019.
 
Semi - isolando, carcaça do GaAs, 2 Dependência da temperatura do calor específico na pressão constante Ccl= 3kbN = 0,345 J g-1°C -1.
N é o número de átomos em 1 og GaAs de g.
Linha tracejada: Cp= (4π2Ccl/5θo3)·T3 para o θo= 345 K.
 
Semi - isolando, carcaça do GaAs, 2 Dependência da temperatura do α linear do coeficiente da expansão
 

 

Ponto de derretimento Tm=1513 K
Para 0 < P < 45 kbar Tm= 1513 - 3.5P (P em kbar)
Pressão de vapor saturado (nos Pascal)
K 1173 1
K 1323 100

 

Você está procurando a carcaça do GaAs?

PAM-XIAMEN é orgulhoso oferecer a carcaça do fosforeto de índio para todos os tipos diferentes dos projetos. Se você está procurando bolachas do GaAs, envie-nos o inquérito hoje para aprender mais sobre como nós podemos trabalhar com você para lhe obter as bolachas que do GaAs você precisa para seu projeto seguinte. Nossa equipe do grupo está olhando para a frente a proporcionar produtos de qualidade e o serviço excelente para você!

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