XIAMEN POWERWAY AVANÇOU CO. MATERIAL, LTD.

XIAMEN POWERWAY ADVANCED MATERIAL CO., LTD.

Manufacturer from China
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Tipo de N, único Crystal Gallium Arsenide Wafer, 4", categoria principal para o diodo emissor de luz e lasers

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XIAMEN POWERWAY AVANÇOU CO. MATERIAL, LTD.
Cidade:xiamen
Província / Estado:fujian
País / Região:china
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Tipo de N, único Crystal Gallium Arsenide Wafer, 4", categoria principal para o diodo emissor de luz e lasers

Pergunte o preço mais recente
Brand Name :PAM-XIAMEN
Place of Origin :China
MOQ :1-10,000pcs
Payment Terms :T/T
Supply Ability :10,000 wafers/month
Delivery Time :5-50 working days
Packaging Details :Packaged in a class 100 clean room environment, in single container, under a nitrogen atmosphere
product name :N Type Gallium Arsenide Wafer
Wafer Diamter :4 inch
Package :Single wafer container or cassette
Grade :Prime Grade
Wafer Thickness :220~450um
keyword :GaAs wafer
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N datilografa, a bolacha do arsenieto de gálio, 4", categoria principal

PAM-XIAMEN desenvolve e fabrica o cristal e a bolacha do arsenieto do carcaça-gálio do semicondutor composto. Nós usamos tecnologia avançada do crescimento de cristal, o gelo vertical do inclinação (VGF) e da bolacha do GaAs tecnologia de processamento, estabelecemos uma linha de produção do crescimento de cristal, corte, moendo ao processamento de lustro e construímos um quarto desinfetado de 100 classes para a limpeza e o empacotamento da bolacha. Nossa bolacha do GaAs inclui o lingote/bolachas de 2~6 polegadas para o diodo emissor de luz, o LD e as aplicações da microeletrônica. Nós somos dedicados sempre para melhorar atualmente a qualidade de substates e para desenvolver grandes carcaças do tamanho.

 

Bolachas do arsenieto de gálio (GaAs) para aplicações do diodo emissor de luz

Artigo Especificações  
Tipo da condução SC/n-type
Método do crescimento VGF
Entorpecente Silicone
Bolacha Diamter 4, polegada
Orientação de cristal (100) 2°/6°/15° fora de (110)
DE EJ ou E.U.
Concentração de portador

(0.4~2.5) E18/cm3

 

Resistividade no RT (1.5~9) E-3 Ohm.cm
Mobilidade

1500~3000cm2/V.sec

 

Densidade do poço gravura em àgua forte <5000/cm2
Marcação do laser

mediante solicitação

 

Revestimento de superfície

P/E ou P/P

 

Espessura

220~450um

 

Epitaxia pronta Sim
Pacote Única recipiente ou gaveta da bolacha

 

Bolachas do arsenieto de gálio (GaAs) para aplicações do LD

Artigo Especificações Observações
Tipo da condução SC/n-type  
Método do crescimento VGF  
Entorpecente Silicone  
Bolacha Diamter 4, polegada Lingote ou como-corte disponível
Orientação de cristal (100) 2°/6°/15°off (110) O outro misorientation disponível
DE EJ ou E.U.  
Concentração de portador (0.4~2.5) E18/cm3  
Resistividade no RT (1.5~9) E-3 Ohm.cm  
Mobilidade 1500~3000 cm2/V.sec  
Densidade do poço gravura em àgua forte <500/cm2  
Marcação do laser mediante solicitação  
Revestimento de superfície P/E ou P/P  
Espessura 220~350um  
Epitaxia pronta Sim  
Pacote Única recipiente ou gaveta da bolacha

Propriedades do cristal do GaAs

Propriedades GaAs
Atoms/cm3 4,42 x 1022
Peso atômico 144,63
Campo da divisão aproximadamente 4 x 105
Estrutura de cristal Zincblende
Densidade (g/cm3) 5,32
Constante dielétrica 13,1
Densidade eficaz dos estados na faixa de condução, Nc (cm-3) 4,7 x 1017
Densidade eficaz dos estados na faixa do Valence, nanovolt (cm-3) 7,0 x 1018
Afinidade de elétron (v) 4,07
Energia Gap em 300K (eV) 1,424
Concentração de portador intrínseco (cm-3) 1,79 x 106
Comprimento de Debye intrínseco (mícrons) 2250
Resistividade intrínseca (ohm-cm) 108
Constante da estrutura (ångströms) 5,6533
Coeficiente linear da expansão térmica, 6,86 x 10-6
ΔL/L/ΔT (1 DEG C)
Ponto de derretimento (DEG C) 1238
Vida do portador de minoria (s) aproximadamente 10-8
Mobilidade (tração) 8500
(cm2 de /V-s)
µn, elétrons
Mobilidade (tração) 400
(cm2 de /V-s)
µp, furos
Energia ótica (eV) do fonão 0,035
Trajeto livre médio do fonão (ångströms) 58
Calor específico 0,35
(J/g-deg C)
Condutibilidade térmica em 300 K 0,46
(W/cm-degC)
Diffusivity térmico (cm2/segundo) 0,24
Pressão de vapor (Pa) 100 em 1050 DEG C;
1 em 900 DEG C

 

 
Comprimento de onda Índice
(µm)
2,6 3,3239
2,8 3,3204
3 3,3169
3,2 3,3149
3,4 3,3129
3,6 3,3109
3,8 3,3089
4 3,3069
4,2 3,3057
4,4 3,3045
4,6 3,3034
4,8 3,3022
5 3,301
5,2 3,3001
5,4 3,2991
5,6 3,2982
5,8 3,2972
6 3,2963
6,2 3,2955
6,4 3,2947
6,6 3,2939
6,8 3,2931
7 3,2923
7,2 3,2914
7,4 3,2905
7,6 3,2896
7,8 3,2887
8 3,2878
8,2 3,2868
8,4 3,2859
8,6 3,2849
8,8 3,284
9 3,283
9,2 3,2818
9,4 3,2806
9,6 3,2794
9,8 3,2782
10 3,277
10,2 3,2761
10,4 3,2752
10,6 3,2743
10,8 3,2734
11 3,2725
11,2 3,2713
11,4 3,2701
11,6 3,269
11,8 3,2678
12 3,2666
12,2 3,2651
12,4 3,2635
12,6 3,262
12,8 3,2604
13 3,2589
13,2 3,2573
13,4 3,2557
13,6 3,2541

 

Que é uma bolacha do teste do GaAs?

A maioria de bolachas do teste do GaAs são as bolachas que caíram fora das especificações principais. As bolachas do teste podem ser usadas para correr as maratonas, equipamento de teste e para a parte alta R & D. São frequentemente uma alternativa eficaz na redução de custos para aprontar bolachas.

Que é as propriedades térmicas da bolacha do GaAs?

Módulo de maioria 7,53·cm2 de 1011 dyn
Ponto de derretimento °C 1240
Calor específico 0,33 J g-1°C -1
Condutibilidade térmica 0,55 °C -1 de W cm-1
Diffusivity térmico 0.31cm2s-1
Expansão térmica, linear 5,73·10-6 °C -1

 

Tipo de N, único Crystal Gallium Arsenide Wafer, 4 Dependência da temperatura da condutibilidade térmica
n-tipo amostra, nenhuma (cm-3): 1. 1016; 2. 1,4·1016; 3. 1018;
p-tipo amostra, po (cm-3): 4. 3·1018; 5. 1,2·1019.
 
Tipo de N, único Crystal Gallium Arsenide Wafer, 4 Dependência da temperatura da condutibilidade térmica (para a alta temperatura)
n-tipo amostra, nenhuma (cm-3): 1. 7·1015; 2. 5·1016; 3. 4·1017; 4. 8·1018;
p-tipo amostra, po (cm-3): 5. 6·1019.
 
Tipo de N, único Crystal Gallium Arsenide Wafer, 4 Dependência da temperatura do calor específico na pressão constante Ccl= 3kbN = 0,345 J g-1°C -1.
N é o número de átomos em 1 og GaAs de g.
Linha tracejada: Cp= (4π2Ccl/5θo3)·T3 para o θo= 345 K.
 
Tipo de N, único Crystal Gallium Arsenide Wafer, 4 Dependência da temperatura do α linear do coeficiente da expansão
 

 

Ponto de derretimento Tm=1513 K
Para 0 < P < 45 kbar Tm= 1513 - 3.5P (P em kbar)
Pressão de vapor saturado (nos Pascal)
K 1173 1
K 1323 100

 

Você está procurando a bolacha do GaAs?

PAM-XIAMEN é seu ir-ao lugar para tudo bolachas, incluindo bolachas do GaAs, como nós o temos feito por quase 30 anos! Inquira-nos hoje para aprender mais sobre as bolachas que nós oferecemos e como nós podemos o ajudar com seu projeto seguinte. Nossa equipe do grupo está olhando para a frente a proporcionar produtos de qualidade e o serviço excelente para você!

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