XIAMEN POWERWAY AVANÇOU CO. MATERIAL, LTD.

XIAMEN POWERWAY ADVANCED MATERIAL CO., LTD.

Manufacturer from China
Dos Estados-activa
6 Anos
Casa / Produtos / InP Wafer /

N datilografa, a bolacha de semicondutor do InP (fosforeto de índio), 2", categoria do teste

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XIAMEN POWERWAY AVANÇOU CO. MATERIAL, LTD.
Cidade:xiamen
Província / Estado:fujian
País / Região:china
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N datilografa, a bolacha de semicondutor do InP (fosforeto de índio), 2", categoria do teste

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Lugar de origem :China
Quantidade de ordem mínima :1-10,000pcs
Termos do pagamento :T/T.
Capacidade da fonte :10.000 bolachas/mês
Tempo de entrega :5-50 dias de trabalho
Detalhes de empacotamento :Empacotado em um ambiente do quarto desinfetado da classe 100, no único recipiente, sob uma atmosfer
Nome do produto :Bolacha do fosforeto de índio
Bolacha Diamter :2 polegadas
Tipo da condução :Tipo de N
Grau :Teste a categoria
Aplicação :ótica electrónica
Palavra-chave :bolacha do InP do único cristal
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N datilografa, a bolacha de semicondutor do InP (fosforeto de índio), 2", categoria do teste

 

PAM-XIAMEN fabrica bolachas do fosforeto de índio do único cristal de pureza alta para aplicações da ótica electrónica. Nossos diâmetros padrão da bolacha variam de 25,4 milímetros (1 polegada) a 200 milímetros (6 polegadas) em tamanho; as bolachas podem ser produzidas em várias espessuras e orientações com lados lustrados ou unpolished e podem incluir entorpecentes. PAM-XIAMEN pode produzir categorias da vasta gama: categoria principal, categoria do teste, categoria do manequim, categoria técnica, e categoria ótica. PAM-XIAMEN igualmente oferecem materiais às especificações do cliente pelo pedido, além do que composições feitas sob encomenda para aplicações do anúncio publicitário e da pesquisa e tecnologias proprietárias novas.

 

N datilografa, a bolacha do InP, 2", categoria do teste

2" especificação da bolacha do InP      
Artigo Especificações
Tipo da condução N-tipo N-tipo
Entorpecente Undoped Enxofre
Diâmetro da bolacha 2"
Orientação da bolacha 100±0.5°
Espessura da bolacha 350±25um
Comprimento liso preliminar 16±2mm
Comprimento liso secundário 8±1mm
Concentração de portador ≤3x1016cm-3 (0.8-6) x1018cm-3 (0.6-6) x1018cm-3 N/A
Mobilidade (3.5-4) x103cm2/V.s (1.5-3.5) x103cm2/V.s 50-70cm2/V.s >1000cm2/V.s
Resistividade N/A N/A N/A >0.5x107Ωcm
EPD <1000cm>-2 <500cm>-2 <1x10>3cm-2 <5x10>3cm-2
TTV <10um>
CURVA <10um>
URDIDURA <12um>
Marcação do laser mediante solicitação
Revestimento de Suface P/E, P/P
Epi pronto sim
Pacote Única recipiente ou gaveta da bolacha
 

Que é bolacha do InP?

O fosforeto de índio é um similar material semiconducting ao GaAs e ao silicone mas é muito um produto de ameia. É muito eficaz em desenvolver o processamento muito de alta velocidade e é mais caro do que o GaAs devido aos grandes comprimentos recolher e desenvolver os ingredientes. Deixe-nos olhar um pouco mais de fatos sobre o fosforeto de índio como se refere uma bolacha do InP.

 

Parâmetros da recombinação

N-tipo puro material (nenhum ~ 10-14cm-3)  
A vida a mais longa dos furos τp ~ 3·10-6 s
Comprimento de difusão Lp = (Dp·τp) 1/2 Lp ~ µm 40.
P-tipo puro material (po ~ 1015cm-3)  
(a) baixo nível da injeção  
A vida a mais longa dos elétrons τn ~ 2·10-9 s
Comprimento de difusão Ln = (Dn·τn) 1/2 Ln ~ µm 8
(b) nível alto da injeção (armadilhas enchidas)  
A vida a mais longa dos elétrons τ ~ 10-8 s
Comprimento de difusão Ln Ln ~ µm 25

 

N datilografa, a bolacha de semicondutor do InP (fosforeto de índio), 2 Velocidade de recombinação de superfície contra o calor de reação pelo átomo de cada fosforeto ΔHR do metal
(  do   de Rosenwaks e outros [1990]).

 

Se o nível de Fermi de superfície EFS é fixado perto do midgap (EFS ~ por exemplo/2) a velocidade de recombinação de superfície aumenta de ~5·10-3cm/s para lubrificar o nível no~3·1015 cm-3 a ~106 cm/s para lubrificar o nível nenhum ~ 3·1018cm-3 (  do   de Bothra e outros [1991]).

 

Coeficiente Radiative da recombinação (300 K) 1,2·10-10 cm3/s
Coeficiente do eixo helicoidal (300 K) ~9·10-31 cm6/s

 

Usos

O InP é usado na eletrônica de alta potência e de alta frequência [citação necessária] devido a sua velocidade superior do elétron no que diz respeito aos semicondutores mais comuns silicone e ao arsenieto de gálio.

Foi usado com o arsenieto de gálio do índio para fazer um registro que quebra a heterojunção pseudo-mórfica o transistor bipolar que poderia se operar em 604 gigahertz.

Igualmente tem um bandgap direto, fazendo o útil para dispositivos da ótica electrónica como diodos láser. A empresa Infinera usa o fosforeto de índio como seu material tecnologico principal fabricando circuitos integrados fotónicos para a indústria ótica das telecomunicações, para permitir aplicações da multiplexação da comprimento de onda-divisão.

O InP é usado igualmente como uma carcaça para dispositivos opto-eletrônicos baseados epitaxial do arsenieto de gálio do índio.

 

Você está procurando uma bolacha do InP?

PAM-XIAMEN é seu ir-ao lugar para tudo bolachas, incluindo bolachas do InP, como nós o temos feito por quase 30 anos! Inquira-nos hoje para aprender mais sobre as bolachas que nós oferecemos e como nós podemos o ajudar com seu projeto seguinte. Nossa equipe do grupo está olhando para a frente a proporcionar produtos de qualidade e o serviço excelente para você!

 

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