XIAMEN POWERWAY AVANÇOU CO. MATERIAL, LTD.

XIAMEN POWERWAY ADVANCED MATERIAL CO., LTD.

Manufacturer from China
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Bolacha Undoped de GaSb, 2", bolacha do Como-corte, bolacha mecânica, ou bolacha lustrada

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XIAMEN POWERWAY AVANÇOU CO. MATERIAL, LTD.
Cidade:xiamen
Província / Estado:fujian
País / Região:china
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Bolacha Undoped de GaSb, 2", bolacha do Como-corte, bolacha mecânica, ou bolacha lustrada

Pergunte o preço mais recente
Lugar de origem :China
Quantidade de ordem mínima :1-10,000pcs
Termos do pagamento :T/T.
Capacidade da fonte :10.000 bolachas/mês
Tempo de entrega :5-50 dias de trabalho
Nome do produto :Bolacha de GaSb da bolacha do Como-corte
Tipo da condução :Tipo de P
Entorpecente :Undoped
Espessura da bolacha :500±25um
O outro nome :Bolacha mecânica de GaSb
Diâmetro da bolacha :2 polegadas
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Bolacha Undoped de GaSb, 2", bolacha do Como-corte, bolacha mecânica, ou bolacha lustrada
PAM-XIAMEN oferece a bolacha de GaSb – antimonieto de gálio que são crescidos por LEC (Czochralski encapsulado líquido) como a categoria epi-pronta ou mecânica com tipo de n, tipo de p ou semi-isolamento na orientação diferente (111) ou (100).
O antimonieto de gálio (GaSb) é um composto semiconducting do gálio e do antimônio da família de III-V. Tem uma constante da estrutura de aproximadamente 0,61 nanômetros. GaSb pode ser usado para os detectores infravermelhos, o diodo emissor de luz e os lasers infravermelhos e os transistor, e sistemas thermophotovoltaic.
 
2" especificação da bolacha de GaSb

ArtigoEspecificações
EntorpecenteUndoped
Tipo da conduçãoP-tipo
Diâmetro da bolacha2"
Orientação da bolacha(100) ±0.5°
Espessura da bolacha500±25um
Comprimento liso preliminar16±2mm
Comprimento liso secundário8±1mm
Concentração de portador(1-2) x1017cm-3
Mobilidade600-700cm2/V.s
EPD<2x10>3cm-2
TTV<10um>
CURVA<10um>
URDIDURA<12um>
Marcação do lasermediante solicitação
Revestimento de SufaceP/E, P/P
Epi prontosim
PacoteÚnica recipiente ou gaveta da bolacha

Concentração de estrutura e de portador de faixa de bolacha de GaSb

A concentração de estrutura e de portador de faixa de bolacha de GaSb inclui parâmetros básicos, temperatura, dependências, dependência da energia Gap na pressão hidrostática, massas eficazes, doadores e aceitantes

 

Parâmetros básicos

Diferença de energia0,726 eV
Separação da energia (EΓL) entre Γ e L vales0,084 eV
Separação da energia (EΓX) entre vales de Γ e de X0,31 eV
Rachadura rotação-orbital da energia0,80 eV
Concentração de portador intrínseco1,5·1012 cm-3
Resistividade intrínseca103 Ω·cm
Densidade eficaz da faixa de condução dos estados2,1·1017 cm-3
Densidade eficaz da faixa do valence dos estados1,8·1019 cm-3

 

Bolacha Undoped de GaSb, 2Concentração de estrutura e de portador de faixa de GaSb. 300 K
Por exemplo = 0,726 eV
EL = 0,81 eV
= eV 1,03 EX
Eso = 0,8 eV

Dependências da temperatura

Dependência da temperatura da diferença de energia

Por exemplo = 0,813 - 3,78·10-4·T2/(T+94) (eV),
onde T está a uma temperatura nos graus K (0 < T="">

Dependência da temperatura do EL da energia

EL = 0,902 - 3,97·10-4·T2/(T+94) (eV)

Dependência da temperatura da energia EX

= 1,142 - 4,75 EX·10-4·T2/(T+94) (eV)

Densidade eficaz dos estados na faixa de condução

Nc = 4,0·1013·T3/2 (cm-3)

Densidade eficaz dos estados na faixa de condução

Nc = 4,0·1013·T3/2 (cm-3)

Densidade eficaz dos estados na faixa do valence

Nanovolt = 3,5·1015·T3/2 (cm-3)

Bolacha Undoped de GaSb, 2As dependências da temperatura da concentração de portador intrínseco.

Dependências na pressão hidrostática

Por exemplo = por exemplo (0) + 14,5·10-3P (eV)
EL = EL (0) + 5,0·10-3P (eV)
(0) - 1,5 EX = EX·10-3P (eV),
onde P é pressão em kbar.

Energia Gap que reduz na elevação que lubrifica níveis

Bolacha Undoped de GaSb, 2Diferença de energia que reduz contra o aceitante do aceitante que lubrifica a densidade.
A curva é calculada para o p-GaSb de acordo com
Os pontos mostram resultados experimentais

Para o n-tipo GaSb

Por exemplo = 13,6·10-9·Nd1/3 + 1,66·10-7·Nd1/4 + 119·10-12·Nd1/2 (eV)

Para o p-tipo GaSb

Por exemplo = 8,07·10-9·Na1/3 + 2,80·10-7·Na1/4+ 4,12·10-12·Na1/2 (eV)

Massas eficazes

Elétrons:

Para o Γ-valemΓ = 0.041mo
No l vale as superfícies da energia igual são elipsoides
 ml= 0.95mo
 mt= 0.11mo
Massa eficaz da densidade dos estados
 mL= 16 (mlmt2) 1/3= 0.57mo
No vale do x as superfícies da energia igual são elipsoides
 ml= 1.51mo
 mt= 0.22mo
Massa eficaz da densidade dos estados
 mX= 9 (mlmt2) 1/3= 0.87mo

Furos:

Pesadomh = 0.4mo
Luzmlp = 0.05mo
Faixa da separação-foramso = 0.14mo
Massa eficaz da densidade dos estadosmilivolt = 0.8mo
Massa eficaz da densidade da condutibilidade
 
mvc = 0.3mo

Doadores e aceitantes

Bolacha Undoped de GaSb, 2O diagrama IV de estados do doador do grupo
 

Energias de ionização de doadores rasos (eV)

Te (L)Te (X)SE (L)SE (X)S (L)S (X)
~0,02≤0.08~0,05~0,23~0,15~0,30

Para concentrações fornecedoras típicas Nd≥ 1017 cm-3 os estados fornecedores rasos conectados com o Γ-vale não apareceram.

Energias de ionização de aceitantes rasos (eV):

O aceitante dominante de GaSb undoped parece ser um defeito nativo.
Este aceitante é duplamente ionizable

Ea1Ea2SiGeZn
0,030,1~0,01~0,009~0,037

 
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